Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/2679
Название: Компьютерная модель процесса низкотемпературного осаждения металлических пленок из атомно-ионных потоков
Авторы: Куценко, Александр Сергеевич
Марченко, Игорь Иванович
Ключевые слова: моделирование математическое; динамика молекулярная; алгоритм вычислительный; расчеты тестовые; медь; mathematical modeling; molecular dynamics; calculation algorithm
Дата публикации: 2013
Издательство: НТУ "ХПИ"
Библиографическое описание: Куценко А. С. Компьютерная модель процесса низкотемпературного осаждения металлических пленок из атомно-ионных потоков / А. С. Куценко, И. И. Марченко // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Системный анализ, управление и информационные технологии. – Харьков : НТУ "ХПИ". – 2013. – № 3 (977). – С. 153-158.
Краткий осмотр (реферат): The simulation algorithm of the formation of metallic thin films at low temperatures was proposed. Using this algorithm test simulations of copper thin film deposition of were made. The obtained simulation results are in agreement with the available experimental data.
Разработан алгоритм моделирования формирования металлических тонких плёнок при низких температурах. При помощи данного алгоритма были проведены тестовые расчеты осаждения тонкой пленки меди. Полученные результаты моделирования находятся в согласии с имеющимися экспериментальными данными.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/2679
Располагается в коллекциях:Вісник № 03
Кафедра "Системний аналіз та інформаційно-аналітичні технології"

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
vestnik_HPI_2013_3_Kutsenko_Komp'yuternaya model.pdf1,4 MBAdobe PDFЭскиз
Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики  Google Scholar



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.