Вплив високовольтної імпульсної дії на структуру, напружений стан і твердість вакуумно-плазмових TiN-покриттів
Вантажиться...
Дата
2012
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Видавець
НТУ "ХПІ"
Анотація
Методом вакуумно-дугового осадження з використанням високочастотної імпульсної
іонної імплантації (спосіб PBIID) отримані покриття нітриду титану з твердістю, яка перевищує 40 ГПа і високою стійкістю до зносу при різанні. Виявлено закономірності зміни фазового
складу, структурно-напруженого стану, твердості від величини і тривалості високовольтного
високоенергетичного високочастотного негативного потенціалу, що подається на підкладку
під час осадження.
Подача високовольтних імпульсів призводить до формування стабільного структурного
стану мононітріда титану з кубічною (структурний тип NaCl) кристалічною решіткою.
Порівняння структури і напруженого стану покриттів нітриду титану, отриманих за звичайною схемою без подачі додаткових високовольтних імпульсів на підкладку в процесі осадження і з
накладенням таких імпульсів, показує, що особливостями впливу імпульсів є значне зменшення
розмірів кристалітів, підвищення структурної однорідності та впорядкування матеріалу в
результаті релаксаційних процесів в області дії термічного піку
TiN coatings with hardness exceeding 40 GPa and high cutting wear-resistance were prepared by the vacuum-arc deposition using high-frequency pulse implantation (PVHD) method. The regularities of phase composition, structure, stress state, and hardness variations depending on the value and duration of high-voltage, high-energy, high-frequency negative potential supplied onto substrate under deposition were revealed. Supplying the high-voltage pulses results in formation of stable structure titanium mono-nitride with cubic (NaCl-type) crystalline lattice. Comparing the structure and stress state of titanium nitride coatings prepared by usual scheme without supplying high-voltage pulses onto the substrate and the data obtained using such pulses indicates the following peculiarities of the pulse effect: significant decrease of crystallite sizes, increase of the structure homogeneity, and ordering the material caused by relaxation processes in the vicinity of dynamical peak action
TiN coatings with hardness exceeding 40 GPa and high cutting wear-resistance were prepared by the vacuum-arc deposition using high-frequency pulse implantation (PVHD) method. The regularities of phase composition, structure, stress state, and hardness variations depending on the value and duration of high-voltage, high-energy, high-frequency negative potential supplied onto substrate under deposition were revealed. Supplying the high-voltage pulses results in formation of stable structure titanium mono-nitride with cubic (NaCl-type) crystalline lattice. Comparing the structure and stress state of titanium nitride coatings prepared by usual scheme without supplying high-voltage pulses onto the substrate and the data obtained using such pulses indicates the following peculiarities of the pulse effect: significant decrease of crystallite sizes, increase of the structure homogeneity, and ordering the material caused by relaxation processes in the vicinity of dynamical peak action
Опис
Ключові слова
іонна імплантація, підкладка, осадження, кристалічна решітка, покриття, макрочастинки
Бібліографічний опис
Вплив високовольтної імпульсної дії на структуру, напружений стан і твердість вакуумно-плазмових TiN-покриттів / О. В. Соболь [та ін.] // Энергосбережение. Энергетика. Энергоаудит = Energy saving. Power engineering. Energy audit. – 2012. – № 8. – С. 50-58.