Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4252
Title: Вплив високовольтної імпульсної дії на структуру, напружений стан і твердість вакуумно-плазмових TiN-покриттів
Other Titles: Тhe effect of high-voltage pulse action on the structure, stress state and hardness of Ti-N vacuum-plasma coatings
Authors: Соболь, Олег Валентинович
Кіданова, Наталія Володимирівна
Храмова, Татьяна Ивановна
Фільчиков, Владислав Євгенійович
Андрєєв, А. А.
Стовповий, В. А.
Keywords: іонна імплантація; підкладка; осадження; кристалічна решітка; покриття; макрочастинки
Issue Date: 2012
Publisher: НТУ "ХПІ"
Citation: Вплив високовольтної імпульсної дії на структуру, напружений стан і твердість вакуумно-плазмових TiN-покриттів / О. В. Соболь [та ін.] // Энергосбережение. Энергетика. Энергоаудит = Energy saving. Power engineering. Energy audit. – 2012. – № 8. – С. 50-58.
Abstract: Методом вакуумно-дугового осадження з використанням високочастотної імпульсної іонної імплантації (спосіб PBIID) отримані покриття нітриду титану з твердістю, яка перевищує 40 ГПа і високою стійкістю до зносу при різанні. Виявлено закономірності зміни фазового складу, структурно-напруженого стану, твердості від величини і тривалості високовольтного високоенергетичного високочастотного негативного потенціалу, що подається на підкладку під час осадження. Подача високовольтних імпульсів призводить до формування стабільного структурного стану мононітріда титану з кубічною (структурний тип NaCl) кристалічною решіткою. Порівняння структури і напруженого стану покриттів нітриду титану, отриманих за звичайною схемою без подачі додаткових високовольтних імпульсів на підкладку в процесі осадження і з накладенням таких імпульсів, показує, що особливостями впливу імпульсів є значне зменшення розмірів кристалітів, підвищення структурної однорідності та впорядкування матеріалу в результаті релаксаційних процесів в області дії термічного піку
TiN coatings with hardness exceeding 40 GPa and high cutting wear-resistance were prepared by the vacuum-arc deposition using high-frequency pulse implantation (PVHD) method. The regularities of phase composition, structure, stress state, and hardness variations depending on the value and duration of high-voltage, high-energy, high-frequency negative potential supplied onto substrate under deposition were revealed. Supplying the high-voltage pulses results in formation of stable structure titanium mono-nitride with cubic (NaCl-type) crystalline lattice. Comparing the structure and stress state of titanium nitride coatings prepared by usual scheme without supplying high-voltage pulses onto the substrate and the data obtained using such pulses indicates the following peculiarities of the pulse effect: significant decrease of crystallite sizes, increase of the structure homogeneity, and ordering the material caused by relaxation processes in the vicinity of dynamical peak action
URI: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4252
Appears in Collections:Кафедра "Економічний аналіз і облік"
Кафедра "Матеріалознавство"
Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"
Кафедра "Фізика"

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
EEE_2012_8_Sobol_Vplyv vysokovoltnoi.pdf777,6 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open
Show full item record  Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.