Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/42729
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКнязев, Владимир Владимировичru
dc.contributor.authorКравченко, Владимир Ивановичru
dc.contributor.authorВаврив, Людмила Владиславовнаru
dc.contributor.authorЯковенко, Игорь Владимировичru
dc.date.accessioned2019-11-12T08:39:44Z-
dc.date.available2019-11-12T08:39:44Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.citationВлияние генерации колебаний полупроводниковых структур элементной базы технических средств на параметры внутренней электромагнитной совместимости в условиях воздействия внешнего электромагнитного излучения / В. В. Князев [и др.] // Вісник Національного технічного університету "ХПІ". Сер. : Техніка та електрофізика високих напруг = Bulletin of the National Technical University "KhPI". Ser. : Technique and Electrophysics of High Voltage : зб. наук. пр. – Харків : НТУ "ХПІ", 2019. – № 18. – С. 20-25.ru
dc.identifier.urihttp://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/42729-
dc.description.abstractВ работе показано, что генерация колебаний в полупроводниковых структурах технических средств, вызванное воздействи-ем на них внешнего электромагнитного излучения непосредственно связано с затуханием плазмонов и его преобразованием в волны Ван-Кампена, сформулированы граничные условия для функции распределения частиц в потоке, получены выражения для декремента колебаний и построена кинетическая теория взаимодействия поверхностных плазмонов с электронным потоком, пересекающим границу раздела сред. Полученные в работе выражения для декрементов(временных характеристик степени затухания колебаний) позволяют определять мощность их излучения в условиях воздействия внешнего электромагнитного поля. Этот процесс характеризуется искажением рабочих(вольтамперных) характеристик полупроводниковых при-боров и оказывает существенное влияние на их электромагнитную совместимость. Получены расчетные соотношения, связывающие величину декремента(инкремента) неустойчивости поверхностных колебаний в полупроводниковых структурах, обусловленные наличием наведенных сторонним электромагнитным излучением токов с параметрами полупроводниковых структур: концентрацией свободных носителей, диэлектрической проницаемостью, размерами структуры. Сравнительный анализ существующих экспериментальных и расчетных данных для типичных значений параметров полупроводниковых приборов при воздействии импульсного электромагнитного излучения показывает, что величина энергии излучения( затухания) колебаний определяется одним порядком величины и имеет общие тенденции изменения в зависимости от величин физических параметров комплектующих материалов и воздействующего импульса напряжения.ru
dc.description.abstractIt is shown in this work that damping ofplasmons is caused by their transformation into van Kampen waves, boundary conditions for function of distribution of particles in flow are formulated, expressions for oscillation decrement are obtained and kinetic theory of interaction of surface plasmons with electron flow crossing an interface has been formed. The expressions for decrements (time char-acteristics of degree of oscillation damping) obtained in the work allow determining power of their radiation in conditions of action of external electromagnetic field. This process is characterized bydistortion of performance (volt-ampere) characteristics of semiconduc tor devices and causes significant influence on their electromagnetic compatibility. Calculated relations connecting the value of dec-rement (increment) of instability of surface oscillations in semiconductor structures, caused by presence of currents induced by extra-neous electromagnetic radiation, with parameters of semiconductor structures: concentration of free carriers, permittivity, structure dimensions have been obtained. Comparative analysis of existing experimental and calculated data for typical values of parameters of semiconductor devices under action ofpulsed electromagnetic radiation shows that the value of energy of radiation (attenuation) of oscillations is determined by the same order of the value and has common tendencies of variation depending on the values of physical parameters of component materials and applied voltage pulse.en
dc.language.isoru-
dc.publisherНациональный технический университет "Харьковский политехнический институт"ru
dc.subjectэлектромагнитные поляru
dc.subjectколебанияru
dc.subjectнеустойчивостьru
dc.subjectзаряженные частицыru
dc.subjectповерхностные волныru
dc.subjectelectromagnetic fieldsen
dc.subjectoscillationsen
dc.subjectinstabilityen
dc.subjectcharged particlesen
dc.subjectsurface wavesen
dc.titleВлияние генерации колебаний полупроводниковых структур элементной базы технических средств на параметры внутренней электромагнитной совместимости в условиях воздействия внешнего электромагнитного излученияru
dc.title.alternativeInfluence of mode of oscillation generation On electromagnetic compatibility of semiconductor structures in conditions of action of electromagnetic radiationen
dc.typeArticleen
dc.identifier.orcidorcid.org/0000-0002-7119-7790-
Appears in Collections:Вісник № 18

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
vestnik_KhPI_2019_18_Knyazev_Vliyanie.pdf393,87 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open
Show simple item record  Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.