Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4752
Title: Особенности формирования короткопериодных многослойных композиций W/B4C
Authors: Копылец, Игорь Анатольевич
Кондратенко, Валерий Владимирович
Зубарев, Евгений Николаевич
Рощупкин, Д. В.
Keywords: метод магнетронного распыления; вольфрам; многослойные рентгеновские зеркала
Issue Date: 2012
Publisher: Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН
Citation: Особенности формирования короткопериодных многослойных композиций W/B4C / И. А. Копылец, В. В. Кондратенко, Е. Н. Зубарев и др. // Журнал технической физики. – 2012. – Вып. 12, т. 82. – С. 101-107.
Abstract: Методами малоугловой рентгеновской дифрактометрии в Cu-Kα-излучении и электронной микроскопии поперечных срезов изучались количественные характеристики межслоевого взаимодействия в многослойных периодических композициях W/B4C, изготовленных магнетронным напылением. Установлено, что на образование перемешанных зон на границах слоев расходуется приблизительно 0.85 nm толщины слоя вольфрама. Перемешанные слои имеют плотность 13.4 ± 0.7 g/cm3 и содержат вольфрам в связанном химически состоянии. Оценено влияние таких перемешанных зон на рентгеновскую отражательную способность многослойных композиций W/B4C. Предложен способ оценки толщины слоев при малом количестве пиков на дифрактограмме
URI: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4752
Appears in Collections:Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2012_Kopylets_Osobennosti_formirovaniya.pdf502,59 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open
Show full item record  Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.