Особенности формирования короткопериодных многослойных композиций W/B4C
Дата
2012
ORCID
DOI
item.page.thesis.degree.name
item.page.thesis.degree.level
item.page.thesis.degree.discipline
item.page.thesis.degree.department
item.page.thesis.degree.grantor
item.page.thesis.degree.advisor
item.page.thesis.degree.committeeMember
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе РАН
Анотація
Методами малоугловой рентгеновской дифрактометрии в Cu-Kα-излучении и электронной микроскопии поперечных срезов изучались количественные характеристики межслоевого взаимодействия в многослойных периодических композициях W/B4C, изготовленных магнетронным напылением. Установлено, что на образование перемешанных зон на границах слоев расходуется приблизительно 0.85 nm толщины слоя вольфрама. Перемешанные слои имеют плотность 13.4 ± 0.7 g/cm3 и содержат вольфрам в связанном химически состоянии. Оценено влияние таких перемешанных зон на рентгеновскую отражательную способность многослойных композиций W/B4C. Предложен способ оценки толщины слоев при малом количестве пиков на дифрактограмме
Опис
Ключові слова
метод магнетронного распыления, вольфрам, многослойные рентгеновские зеркала
Бібліографічний опис
Особенности формирования короткопериодных многослойных композиций W/B4C / И. А. Копылец, В. В. Кондратенко, Е. Н. Зубарев и др. // Журнал технической физики. – 2012. – Вып. 12, т. 82. – С. 101-107.