Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4787
Назва: Effect of working gas pressure on interlayer mixing in magnetron-deposited Mo/Si multilayers
Автори: Pershyn, Yuriy P.
Gullikson, Eric M.
Kondratenko, Valeriy V.
Mamon, Valentine V.
Reutskaya, Svetlana A.
Voronov, Dmitriy L.
Zubarev, Evgeniy N.
Artyukov, Igor A.
Vinogradov, Alexander Vladimirovich
Ключові слова: subject terms; x-ray multilayer mirrors; interfaces; composition; pressure influence; silicides
Дата публікації: 2013
Видавництво: SPIE
Бібліографічний опис: Effect of working gas pressure on interlayer mixing in magnetron-deposited Mo/Si multilayers / Y. P. Pershyn [et al.] // Optical Engineering. – 2013. – Vol. 52 (9). – p. 095104-1-10.
Короткий огляд (реферат): By methods of cross-sectional transmission electron microscopy and small-angle x-ray scattering (λ = 0.154 nm) the influence of Ar gas pressure (1 to 4 mTorr) on the growth of amorphous interfaces in Mo/Si multilayers (MLs) deposited by DC magnetron sputtering is studied. The significant reduction in the ML period, which is evident as a volumetric contraction, is observed in MLs deposited at Ar pressure where the mean-free path for the sputtered atoms is comparable with the magnetronsubstrate distance. Some reduction in the thickness of the amorphous interlayers with Ar pressure increase is found, where the composition of the interlayers is enriched with molybdenum. The interface modification resulted in an increase in EUV reflectance of the Mo/Si MLs
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4787
Розташовується у зібраннях:Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
2013_Pershyn_Effect_of_working.pdf1,75 MBAdobe PDFЕскіз
Відкрити
Показати повний опис матеріалу Перегляд статистики  Google Scholar



Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.