Please use this identifier to cite or link to this item: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/57506
Title: Analysis of 46.9-nm Pulsed Laser Radiation Aftereffects in Sc/Si Multilayer X-Ray Mirrors
Authors: Pershyn, Yu. P.
Voronov, D. L.
Zubarev, E. N.
Sevryukova, V. A.
Kondratenko, V. V.
Vaschenko, G.
Grisham, M.
Menoni, C. S.
Rocca, J. J.
Vinogradov, A.V.
Artyukov, I. A.
Uspenskii, Yu. A.
Keywords: laser radiation; specific structural changes; single laser pulses; methods of SEM; наносекундні одиночні лазерні імпульси; cпецифічні структурні зміни; імпульсне лазерне випромінювання; екзотермічна реакція утворення силіциду
Issue Date: 2007
Publisher: Springer
Citation: Analysis of 46.9-nm Pulsed Laser Radiation Aftereffects in Sc/Si Multilayer X-Ray Mirrors [Electronic resource] / Yu. P. Pershyn [et al.] // Springer Proc. in Physics. – 2007. – Vol. 115. – X-Ray Lasers 2006 / edited by P. V. Nickles and K. A. Janulewicz, – Electronic text data. – Dordrecht (The Netherlands) : Springer, 2007. – P. 563-569. – URI: https://www.researchgate.net/publication/226998995_Analysis_of_469-nm_Pulsed_Laser_Radiation_Aftereffects_in_ScSi_Multilayer_X-Ray_Mirrors/link/0fcfd5045abdca356c000000/download, free (accessed 27.06.2022).
Abstract: Specific structural changes in Sc/Si multilayers (MLs) irradiated by nanosecond 46.9-nm single laser pulses with fluences of 0.04-5.00 J/cm2 were studied by methods of SEM and cross-sectional TEM. The threshold damage was found to be 0.08 J/cm2 The ML melts down under the fluence F >0.08 J/cm2 and the exothermic reaction of silicide formation starts. Main degradation mechanisms of MLs are discussed. The results of this study can be used for development of advanced multilayer mirrors capable handling the intense radiation conditions of new generation coherent X-ray sources.
Специфічні структурні зміни в багатошарах (МШ) Sc/Si, опромінених наносекундними одиночними лазерними імпульсами 46,9 нм з флюенсом 0,04-5,00 Дж/см2, досліджено методами СЕМ та поперечної ТЕМ. Встановлено, що порогове пошкодження становить 0,08 Дж/см2. ML плавиться під впливом потоку F >0,08 Дж/см2, і починається екзотермічна реакція утворення силіциду. Обговорюються основні механізми деградації ML. Результати цього дослідження можуть бути використані для розробки передових багатошарових дзеркал, здатних працювати в умовах інтенсивного випромінювання когерентних джерел рентгенівського випромінювання нового покоління.
DOI: doi.org/10.1007/978-1-4020-6018-2_72
URI: http://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/57506
Appears in Collections:Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
Pershyn_Analysis_of_46.9_nm_pulsed_2007.pdf865,71 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record  Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.