Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія"

Вантажиться...
Ескіз

Дата

2023

DOI

Науковий ступінь

Рівень дисертації

Шифр та назва спеціальності

Рада захисту

Установа захисту

Науковий керівник

Члени комітету

Видавець

Анотація

Фотолітографія – це метод отримання зображення на поверхні матеріалу, який використовується в мікроелектроніці, у виробництві друкованих плат, а також з метою створення рельєфного зображення на металах. Суть процесу фотолітографії полягає в тому, що на поверхню, яка обробляється, наноситься тонка світлочутлива полімерна плівка – фоторезист, яка засвічується через фотошаблон із заданим малюнком. Далі експоновані ділянки видаляються у проявнику. Малюнок на фоторезисті може використовуватись для локального травлення, електрохімічного осадження, вакуумного напилювання тощо. Після цього залишки фоторезисту також видаляються. Відмінність фотолітографії від інших видів літографії полягає в тому, що експонування здійснюється видимим або ультрафіолетовим світлом, тоді як в інших видах літографії для цього використовується рентгенівське випромінювання (рентгенівська літографія), потік електронів (електронно-променева літографія) або іонів (іонно-променева літографія). Актуальність. Якщо темпи розвитку мікроелектроніки не зміняться, то кожні три роки мінімальний розмір елементів буде зменшуватися з коефіцієнтом 0,7. Для досягнення більш високої роздільної здатності потрібні нові технологічні процеси, маскувальні матеріали і оновлення виробничого обладнання, оскільки кожна фотолітографічна установка має обмеження щодо максимально досяжної роздільної здатності. Дослідження властивостей сухих плівкових фоторезистів є актуальним через недостатність даних про їхні технологічні властивості (хімічну стійкість, роздільну здатність процесу тощо). Мета роботи – ознайомлення з процесами локального хімічного і електрохімічного травлення листової міді з використанням як захисної маски сухого плівкового фоторезисту.

Опис

Ключові слова

методичні вказівки, хімічні технології, сухі плівкові фоторезисти, електрохімічне травлення, світлочутливість, мікроелектроніка

Бібліографічний опис

Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія" [Електронний ресурс] : для студентів спец. 161 "Хімічні технології та інженерія" / уклад.: С. А. Лещенко, С. Г. Дерібо ; Нац. техн. ун-т "Харків. політехн. ін-т". – Електрон. текст. дані. – Харків, 2023. – 43 с. – URI: https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/72339.