Математическое моделирование изменения толщины оксидного пленки при низкоэнергетическом ионном азотировании
Вантажиться...
Дата
2012
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Видавець
НТУ "ХПИ"
Анотація
Сформулирована математическая модель изменения толщины оксидного слоя при ионном азотировании металлов и сплавов в остаточной атмосфере вакуумной камеры. Получены расчеты характерных времен стравливания оксидных пленок при ионном азотировании.
A mathematical model of thickness variation of the oxide layer during ion nitriding of metals and alloys in the vacuum chamber’s residual atmosphere was formulated. Estimates of characteristic times of oxide films dissipation during ion nitriding were obtained.
A mathematical model of thickness variation of the oxide layer during ion nitriding of metals and alloys in the vacuum chamber’s residual atmosphere was formulated. Estimates of characteristic times of oxide films dissipation during ion nitriding were obtained.
Опис
Ключові слова
слой нитридный, облучение ионное, металл, сплав, камера вакуумная, процесс технологический
Бібліографічний опис
Куценко А. С. Математическое моделирование изменения толщины оксидного пленки при низкоэнергетическом ионном азотировании / А. С. Куценко, И. И. Марченко // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Системный анализ, управление и информационные технологии. – Харьков : НТУ "ХПИ". – 2012. – № 30. – С. 7-10.