Калимон, Я. А.Білань, О. І.Кунтий, О. І.2018-01-122018-01-122008Калимон Я. А. Співосадження імпульсним струмом кадмію та телуру в диметилсульфоксидних розчинах / Я. А. Калимон, О. І. Білань, О. І. Кунтий // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2008. – № 16. – С. 43-45.https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/33802Досліджено сумісне електровідновлення кадмію та телуру в 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ диметилсульфоксидних розчинах за 20…60 °С. Показано, що за потенціалів до -2,5 В в режимі імпульсного струму формуються плівкові покриття. Тривалістю імпульсу та паузи й співвідношення між ними регулюється вміст компонентів системи Cd-Те і розмір частинок осаду.The electrochemical cosedimentation of cadmium and tellurium in 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ dimethylsulfoxide solutions at 20…60 °С was investigated. Thin films forming by pulse plating technique at potentials up to -2.5 V was shown. Components content in Cd-Te system and sediment parts dimensions controlling by pulses and pauses duration and they correlation.ukелектровідновленняплівкові покриттяелектролізосадтривалість імпульсуArticle