Воронов, Геннадий Константинович2015-02-132015-02-132014Воронов Г. К. Особенности получения стеклокристаллических материалов с низким ТКЛР в системе PbO-ZrO2-R2O3-SiO2 / Г. К. Воронов // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Инновационные исследования в научных работах студентов. – Харьков : НТУ "ХПИ". – 2014. – № 49 (1091). – С. 145-149.https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/13005В статье рассмотрена возможность создания стеклоприпоев с низким коэффициентом линейного расширения и температурой наплавления для спаивания деталей микроэлектроники с высоким содержанием кремния. Установлены области стеклообразования в системе PbO–B2O3–Al2O3–ZrO2–SiO2 и характер распределения значений коэффициента линейного расширения стекла. Синтезированы образцы стекол, определена их способность к кристаллизации. Получены образцы стеклоприпоев и исследованы их технологические свойства. Сделаны выводы о возможности практического применения синтезированных стеклоприпоев.The article considers the possibility of creating a frit with a low coefficient of linear expansion and fusing temperature for soldering components of microelectronics with high silicon content. The areas of glass formation in the system PbO-B2O3-Al2O3-ZrO2-SiO2 and the distribution of values of the coefficient of linear expansion of the glass. Synthesized glass samples and determined their ability to crystallize. Samples frit and explore their technological properties. Conclusions about the practical application of the synthesized frit.ruлегкоплавкие стекластеклоприпойстеклоформующая системакристаллическая фазакоэффициент расширениятемпература спаиванияglas fritglass forming systemcrystalline phasecoefficient of expansionsoldering temperatureОсобенности получения стеклокристаллических материалов с низким ТКЛР в системе PbO-ZrO2-R2O3-SiO2Glasses in system RO-RO2-R3O3-SiO2 for brazing of electronic detailsArticle