Лещенко, Сергій АнатолійовичДерібо, Світлана Германівна2023-12-282023-12-282023Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія" [Електронний ресурс] : для студентів спец. 161 "Хімічні технології та інженерія" / уклад.: С. А. Лещенко, С. Г. Дерібо ; Нац. техн. ун-т "Харків. політехн. ін-т". – Електрон. текст. дані. – Харків, 2023. – 43 с. – URI: https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/72339.https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/72339Фотолітографія – це метод отримання зображення на поверхні матеріалу, який використовується в мікроелектроніці, у виробництві друкованих плат, а також з метою створення рельєфного зображення на металах. Суть процесу фотолітографії полягає в тому, що на поверхню, яка обробляється, наноситься тонка світлочутлива полімерна плівка – фоторезист, яка засвічується через фотошаблон із заданим малюнком. Далі експоновані ділянки видаляються у проявнику. Малюнок на фоторезисті може використовуватись для локального травлення, електрохімічного осадження, вакуумного напилювання тощо. Після цього залишки фоторезисту також видаляються. Відмінність фотолітографії від інших видів літографії полягає в тому, що експонування здійснюється видимим або ультрафіолетовим світлом, тоді як в інших видах літографії для цього використовується рентгенівське випромінювання (рентгенівська літографія), потік електронів (електронно-променева літографія) або іонів (іонно-променева літографія). Актуальність. Якщо темпи розвитку мікроелектроніки не зміняться, то кожні три роки мінімальний розмір елементів буде зменшуватися з коефіцієнтом 0,7. Для досягнення більш високої роздільної здатності потрібні нові технологічні процеси, маскувальні матеріали і оновлення виробничого обладнання, оскільки кожна фотолітографічна установка має обмеження щодо максимально досяжної роздільної здатності. Дослідження властивостей сухих плівкових фоторезистів є актуальним через недостатність даних про їхні технологічні властивості (хімічну стійкість, роздільну здатність процесу тощо). Мета роботи – ознайомлення з процесами локального хімічного і електрохімічного травлення листової міді з використанням як захисної маски сухого плівкового фоторезисту.ukметодичні вказівкихімічні технологіїсухі плівкові фоторезистиелектрохімічне травленнясвітлочутливістьмікроелектронікаLearning Objecthttps://orcid.org/0000-0003-2918-9575https://orcid.org/0000-0002-1790-9857