Obtaining complex diffusion layers using composite saturating environment - Kruglyak, Irina Vasil‘evna; Khina, Boris Borisovich; Goranskiy, Georgy Georgievich (Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут", 2019)
The process of obtaining aluminum, titanium, siliconized, nickel layers is an effective method to increase the reliability and durability of machine parts, tools by creating protective layers on the surface of workpieces with a unique set of physic-chemical properties. One of the most effective methods for producing diffusion layers, which have high mechanical, physical, and chemical characteristics, is diffuse saturation of the surface of metals using composite saturating environments. The large amount of theoretical and experimental material based on the use of precision methods for studying the phase and chemical composition of a diffusion layer allows us to state that in many cases of the chemical-thermal treatment of the formation of a diffusion layer it does not obey equilibrium conditions, but proceeds intermittently and can begin with the formation of a higher phase or medium composition. The structure of the diffusion layer in this case is not equilibrium. Among the various factors influencing the mechanism of formation of a diffusion layer with an uneven structure, the main ones are the initial conditions preceding the process of diffusion of elements into a metal, directly or indirectly depend on a number of physicochemical and kinetic factors of saturation, especially significant when it comes to compositional saturating environment presented in this study. Copper-based alloys served as initial data for the study. Based on the analysis of the requirements for the layer and the selected method of saturation of the metal to obtain a diffusion layer, the method of diffusion of surface saturation from a solid phase in an active gas medium is selected. This method provides high surface quality, and it is the simplest and most effective in laboratory practice, is well reproduced in a production environment, and it does not require special sophisticated equipment, realizing it.

Процес отримання алюмінієвих, титанових, силіційованих, нікельованих шарів є ефективним методом підвищення надійності та довговічності деталей машин, інструментів за рахунок створення захисних шарів на поверхні оброблюваних деталей, які мають унікальний набір фізико-хімічних властивостей. Одним з найбільш ефективних методів отримання дифузійних шарів, які володіють високими механічними, фізичними та хімічними характеристиками, є дифузійне насичення поверхні металів із застосуванням композиційних насичуючих середовищ. Наявний великий теоретичний і експериментальний матеріал, який ґрунтується на застосуванні прецизійних методів дослідження фазового і хімічного складів дифузійного шару, дозволяє стверджувати, що у багатьох випадках практики хіміко-термічної обробки утворення дифузійного шару не підкоряється рівноважним умовам, а протікає переривчасто і може розпочатися з утворення фази вищого або середнього складу. Структура дифузійного шару в цьому випадку не є рівноважною. Серед різних чинників, що впливають на механізм формування дифузійного шару з нерівномірною структурою, головними є початкові умови, передуючі процесу дифузії елементів у метал, які прямо або побічно залежать від ряду фізико-хімічних і кінетичних чинників насичення, особливо значимих, якщо йдеться про композиційне насичуюче середовище, представлене в цьому дослідженні. Сплави на основі міді служили вихідними даними для вивчення. На основі аналізу вимог до шару та обраного способу насичення металу для отримання дифузійного шару обрано метод дифузії насичення поверхні від твердої фази в активному газовому середовищі. Цей метод забезпечує високу якість поверхні, і він є найпростішим і найбільш дієвий у лабораторній практиці, добре відтворюється у виробничих умовах, і він не вимагає спеціального складного обладнання, реалізуючи його.
Отримання комплексних дифузійних шарів з використанням композиційних насичуючих середовищ
Keywords: titanium; aluminum; silicon; nickel; титан; алюміній; кремній; нікель