Гологан, В. Ф.Бобанова, Ж. И.Ивашку, С. Х.2018-01-112018-01-112008Гологан В. Ф. Особенности процесса хромирования при подключении к источнику питания индуктивно-емкостного устройства / В. Ф. Гологан, Ж. И. Бобанова, С. Х. Ивашку // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2008. – № 16. – С. 33-36.https://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/33789У роботі приведені результати дослідження процесу осадження хрому при різних параметрах індуктивно-ємкісного пристрою. Змінюючи значення індуктивності і ємкості можна робити істотний вплив на кінетику осадження, збільшення продуктивності (2,7 – 3 рази) і зносостійкості (2 рази) осадків.In paper the experimental dates received at various parameters of the inductance-capacitor device. Varying inductance and capacity under identical conditions of electrolysis, it is possible to change kinetics of plating process, increasing productivity of deposition (2 times) and wear resistance of coating (2,7 – 3 times).ruфизико-механические свойстваосаждениепокрытияизносэлектролитArticle