Вісник № 05
Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/11162
Переглянути
Документ Определение коэффициента затухания магнитного поля в промышленной микроволновой камере(НТУ "ХПИ", 2014) Себко, Вадим Вадимович; Бабенко, Владимир Николаевич; Рябовол, Е. Н.Предложен алгоритм совместного измерительного контроля коэффициента затухания ht, относительной магнитной проницаемости yirt, удельной электрической проводимости ot и температуры t стенки микроволновой камеры с помощью экранного вихретокового устройства. Предложен четырехпараметровый вихретоковый метод измерительного контроля относительной магнитной проницаемости, удельной электрической проводимости, температуры и коэффициента затухания однородного магнитного поля в стенке микроволновой камеры. Приведены основные соотношения, описывающие четырехпараметровый экранный метод