Вісник № 52
Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/19940
Переглянути
Документ Оцінка впливу основних конструкторсько-технологічних чинників на чутливість приладу на основі явища поверхневого плазмонного резонансу(НТУ "ХПІ", 2015) Дорожинський, Гліб ВячеславовичРозглядається залежність чутливості приладу на основі поверхневого плазмонного резонансу від шорсткості поверхні металевого шару його чутливого елементу та довжини хвилі збудження поверхневих плазмонів. Встановлено, що зменшення шорсткості поверхні металевого шару та збільшення довжини хвилі викликає підвищення чутливості при вимірюванні зміни інтенсивності відбитого світла та зменшення чутливості при вимірюванні зсуву мінімуму характеристики відбиття. Результати досліджень можуть бути використані для вдосконалення існуючих та створення нових приладів на основі поверхневого плазмонного резонансу.