В статті наведено аналітичне рішення задачі проникнення електростатичного поля крізь круглу апертуру у кульовій металевій оболонці. Застосовано рішення інтегрального рівняння Фредгольма першого роду, яке описує розподіл зарядів на відповідній кульовій оболонці. Знайдене рішення дало змогу визначити межі застосування методу еквівалентних дипольних моментів в розрахунках структури поля, що проникає крізь апертури до оболонок. Це рішення використовується як тест відповідних прикладних програм для ЕОМ.
