Кафедра "Технічна кріофізика"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/7478

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/krio

Кафедра "Технічна кріофізика" була організована 31 серпня 1977 року професором Анатолієм Григоровичем Подольським, відомим вченим в галузі фізики низьких температур. Підготовка студентів по кріогенній техніці почалася ще у 1973 році.

Підготовка студентів проходить на кафедрі та у філіалі при Фізико-технічному інституті низьких температур НАН України та Інституті кріобіології та кріомедицини НАН України.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту енергетики, електроніки та електромеханіки Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора технічних наук, 3 кандидата технічних наук; 1 співробітник має звання професора, 1 – доцента, 1 – старшого наукового співробітника.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    Исследования и разработка энергосберегающей теплозащиты для криобиологических сосудов Дьюара
    (Інститут тваринництва Національної академії аграрних наук України, 2013) Жунь, Георгий Григорьевич; Шкутов, Р. А.
    В статье описаны разработанные впервые научные подходы исследования особенностей 2-х и 3-х - мерных процессов тепломассопереноса в многоэлементной теплозащите на криобиологических сосудах Дьюара, используемых в животноводстве, с целью выявления причин их низкой эффективности. Проведенные исследования позволили выявить 13 ухудшающих факторов, разработать конструкции и технологии для их устранения и изготовления данных криососудов с самой низтеплопроводной энергосберегающей теплозащитой.
  • Ескіз
    Документ
    Выявление и устранение дефектов в криососудах
    (Национальный аэрокосмический университет им. Н. Е. Жуковского "Харьковский авиационный институт", 2012) Жунь, Георгий Григорьевич
    В работе приведены результаты исследований двух- и трехмерных процессов тепломассопереноса в теплозащите криососудов из полос экранно-вакуумной теплоизоляции (ЭВТИ). Установлено, что причинами увеличения ее теплопроводности на криососудах в сравнении с их калориметрическими образцами является образование в них различных дефектов. Определены значения для установленного комплекса из 11 параметров, улучшающих конструкции и технологии для проектирования и изготовления криососудов с теплозащитой из пакетов ЭВТИ без дефектов, теплопроводность которых лишь на 24-27 % превышает калориметрические значения. Изготовленные криососуды с данной теплозащитой имеют ресурс работы при разовом заполнении, превышающий лучшие зарубежные аналоги.