Кафедра "Технічна кріофізика"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/7478

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/krio

Кафедра "Технічна кріофізика" була організована 31 серпня 1977 року професором Анатолієм Григоровичем Подольським, відомим вченим в галузі фізики низьких температур. Підготовка студентів по кріогенній техніці почалася ще у 1973 році.

Підготовка студентів проходить на кафедрі та у філіалі при Фізико-технічному інституті низьких температур НАН України та Інституті кріобіології та кріомедицини НАН України.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту енергетики, електроніки та електромеханіки Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора технічних наук, 3 кандидата технічних наук; 1 співробітник має звання професора, 1 – доцента, 1 – старшого наукового співробітника.

Переглянути

Фільтри

20222

Налаштування

ORCID: search.filters.orcid.https://orcid.org/0000-0001-8291-2721

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    Development of a technology for manufacturing a heat-shielding structure on nitrogen cryocontainers, excluding heat transfer through gas
    (2022) Zhun, H. H.; Starikov, V. V.; Koverya, V. P.
    One of the important stages in the creation of the scientific and technical foundations for the calculation, de-sign and manufacturing technology of the lowest heat-conductivity thermal protection from screen-vacuum thermal insulation (SVTI) is the development of a process for achieving the optimal vacuum Р₀ ≤ 10⁻³ Pa in the SVTI layers, since at this pressure, thermal conductivity (λeff) through the SVTI is carried out only due to the radiant (λrad) and contact-conductive (λk.k) components. It is proposed to obtain such a pressure in thermal insulation by using cushioning material in it, which was previously degassed in a separate vacuum chamber at 370–380 K for 12 h in order to remove water molecules from its structure and then replace them with nitrogen molecules. These molecules have 3–4 times less heat of adsorption; therefore they are pumped out faster. As a result, it becomes possible to accelerate (by ~ 20 h) to achieve optimal vacuum in thermal insulation, as well as 11% lower effective thermal conductivity [equal to (14.1–14.3)∙10⁻⁵ W/(m∙K)]. The analysis carried out (according to the developed methodology) showed that the achieved optimal effective thermal conductivity of thermal insulation in a cryocontainers is determined by 33% of radiant thermal conductivity [4.7∙10⁻⁵ W/(m∙K)] and 67% of the contact-conductive component [9.4∙10⁻⁵ W/(m∙K)].
  • Ескіз
    Документ
    Development of technology for forming vacuum-arc TiN coatings using additional impulse action
    (Institute for Single Crystals, 2022) Pinchuk, N. V.; Starikov, V. V.; Kniazieva, H. O.; Surovytskyi, S. V.; Konotopska, N. V.
    The effect of supplying a constant and high-voltage pulse with duration of 10 μs on the formation of predominantly oriented crystallites and the stress-strain state of vacuum-arc TiN coatings at two pressures of a nitrogen atmosphere is analyzed. It is shown that the deposition of the coatings under conditions of high voltage cascading effect leads to the growth of crystallites with the texture axis [110]. and to a change in the stress-strain state (reduction of deformation in the group of crystallites with the axis [111]). The obtained results are explained by an increase in the mobility of atoms and ordering processes in the region of the displacement cascades formed under the action of bombarding high-energy ions accelerated in the field of high-wave pulse potential. Computer simulations of the main processes observed during deposition were performed.