Кафедра "Технічна електрохімія"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/3034

p>Офіційний сайт кафедри https://web.kpi.kharkov.ua/dte

Кафедра "Технічна електрохімія" була заснована в 1930 році в Харківському хіміко-технологічному інституті. У 1931 році її очолив М. А. Рабінович.

Кафедра технології електрохімічних виробництв почала самостійно функціонувати з 1926 року під керівництвом А. В. Терещенка, але офіційно була затверджена лише в 1930 році.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту хімічних технологій та інженерії Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора та 7 кандидатів технічних наук; 1 співробітник має звання професора, 6 – доцента 1 – старшого дослідника.

Переглянути

Фільтри

20232

Налаштування

ORCID: search.filters.orcid.https://orcid.org/0000-0003-2918-9575Ключові слова: search.filters.subject.методичні вказівки

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія"
    (2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана Германівна
    Фотолітографія – це метод отримання зображення на поверхні матеріалу, який використовується в мікроелектроніці, у виробництві друкованих плат, а також з метою створення рельєфного зображення на металах. Суть процесу фотолітографії полягає в тому, що на поверхню, яка обробляється, наноситься тонка світлочутлива полімерна плівка – фоторезист, яка засвічується через фотошаблон із заданим малюнком. Далі експоновані ділянки видаляються у проявнику. Малюнок на фоторезисті може використовуватись для локального травлення, електрохімічного осадження, вакуумного напилювання тощо. Після цього залишки фоторезисту також видаляються. Відмінність фотолітографії від інших видів літографії полягає в тому, що експонування здійснюється видимим або ультрафіолетовим світлом, тоді як в інших видах літографії для цього використовується рентгенівське випромінювання (рентгенівська літографія), потік електронів (електронно-променева літографія) або іонів (іонно-променева літографія). Актуальність. Якщо темпи розвитку мікроелектроніки не зміняться, то кожні три роки мінімальний розмір елементів буде зменшуватися з коефіцієнтом 0,7. Для досягнення більш високої роздільної здатності потрібні нові технологічні процеси, маскувальні матеріали і оновлення виробничого обладнання, оскільки кожна фотолітографічна установка має обмеження щодо максимально досяжної роздільної здатності. Дослідження властивостей сухих плівкових фоторезистів є актуальним через недостатність даних про їхні технологічні властивості (хімічну стійкість, роздільну здатність процесу тощо). Мета роботи – ознайомлення з процесами локального хімічного і електрохімічного травлення листової міді з використанням як захисної маски сухого плівкового фоторезисту.
  • Ескіз
    Документ
    Методичні вказівки до виконання курсової роботи "Розробка технологічного процесу нанесення гальванічного покриття"
    (2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана Германівна
    Курсова робота присвячена вибору технологічної схеми одержання гальванічних покрить, виходячи з характеристики оброблюваних деталей, функціонального призначення покрить та умов подальшої експлуатації кінцевого виробу. Загальні правила та методика виконання та оформлення текстових документів, що застосовуються у навчальному процесі, структура та зміст курсових робіт, присвячених проектуванню гальванічних дільниць, визначаються системою стандартів з організації навчального процесу НТУ «ХПІ».