Кафедра "Технічна електрохімія"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/3034

p>Офіційний сайт кафедри https://web.kpi.kharkov.ua/dte

Кафедра "Технічна електрохімія" була заснована в 1930 році в Харківському хіміко-технологічному інституті. У 1931 році її очолив М. А. Рабінович.

Кафедра технології електрохімічних виробництв почала самостійно функціонувати з 1926 року під керівництвом А. В. Терещенка, але офіційно була затверджена лише в 1930 році.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту хімічних технологій та інженерії Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора та 7 кандидатів технічних наук; 1 співробітник має звання професора, 6 – доцента 1 – старшого дослідника.

Переглянути

Фільтри

2021 - 20233

Налаштування

ORCID: search.filters.orcid.https://orcid.org/0000-0003-2918-9575

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 3 з 3
  • Ескіз
    Документ
    Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія"
    (2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана Германівна
    Фотолітографія – це метод отримання зображення на поверхні матеріалу, який використовується в мікроелектроніці, у виробництві друкованих плат, а також з метою створення рельєфного зображення на металах. Суть процесу фотолітографії полягає в тому, що на поверхню, яка обробляється, наноситься тонка світлочутлива полімерна плівка – фоторезист, яка засвічується через фотошаблон із заданим малюнком. Далі експоновані ділянки видаляються у проявнику. Малюнок на фоторезисті може використовуватись для локального травлення, електрохімічного осадження, вакуумного напилювання тощо. Після цього залишки фоторезисту також видаляються. Відмінність фотолітографії від інших видів літографії полягає в тому, що експонування здійснюється видимим або ультрафіолетовим світлом, тоді як в інших видах літографії для цього використовується рентгенівське випромінювання (рентгенівська літографія), потік електронів (електронно-променева літографія) або іонів (іонно-променева літографія). Актуальність. Якщо темпи розвитку мікроелектроніки не зміняться, то кожні три роки мінімальний розмір елементів буде зменшуватися з коефіцієнтом 0,7. Для досягнення більш високої роздільної здатності потрібні нові технологічні процеси, маскувальні матеріали і оновлення виробничого обладнання, оскільки кожна фотолітографічна установка має обмеження щодо максимально досяжної роздільної здатності. Дослідження властивостей сухих плівкових фоторезистів є актуальним через недостатність даних про їхні технологічні властивості (хімічну стійкість, роздільну здатність процесу тощо). Мета роботи – ознайомлення з процесами локального хімічного і електрохімічного травлення листової міді з використанням як захисної маски сухого плівкового фоторезисту.
  • Ескіз
    Документ
    Методичні вказівки до виконання курсової роботи "Розробка технологічного процесу нанесення гальванічного покриття"
    (2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана Германівна
    Курсова робота присвячена вибору технологічної схеми одержання гальванічних покрить, виходячи з характеристики оброблюваних деталей, функціонального призначення покрить та умов подальшої експлуатації кінцевого виробу. Загальні правила та методика виконання та оформлення текстових документів, що застосовуються у навчальному процесі, структура та зміст курсових робіт, присвячених проектуванню гальванічних дільниць, визначаються системою стандартів з організації навчального процесу НТУ «ХПІ».
  • Ескіз
    Документ
    Електрохімічне осадження сплаву олово–цинк з цитратно–аміакатного електроліту
    (Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут", 2021) Дерібо, Світлана Германівна; Лещенко, Сергій Анатолійович; Гомозов, Валерій Павлович; Коваленко, Юлія Іванівна
    Досліджено катодні процеси електрохімічного осадження сплаву олово–цинк в цитратно–аміакатних електролітах. Концентрації основних компонентів досліджуваного електроліту (г/дм3): олова хлорид (SnCl2·2H2O) – 44, цинку оксид (ZnO) – 4, амонію хлорид (NH4Cl) –100, натрію цитрат (Na3C6H5O7) –100. Столярний клей (1,5 г/дм3) та неонол (4 мл\дм3) додавали в електроліт як поверхнево–активні речовини. Встановлено, що якісні покриття без підігріву та перемішування осаджуються тільки в діапазоні pH від 6,0 до 7,0. Додавання до електроліту вказаних речовин очікувано призводило до гальмування відновлення металів, покращення кристалічної структури осаду, але зменшувало катодний вихід за струмом. Дослідження, проведені за допомогою комірки Хулла, показали, що електроліт, який містить неонол як поверхнево–активну речовину, продемонстрував найкращу розсіювальну здатність у порівнянні з іншими розчинами. Залежність виходу сплаву за струмом від катодної густини струму показала, що в діапазоні густин струму від 0,5 А/дм2до 4 А/дм2 вихід за струмом нелінійно зменшується з 82% до 52%. Експериментально одержана залежність вмісту цинку в сплаві від катодної густини струму показала можливість одержання сплавів з вмістом цинку від 8% до 33%. Одержані результати дозволили визначити, що для осадження сплаву з вмістом цинку 20–25 %, який забезпечує найкращі антикорозійні властивості покриття, необхідно здійснювати процес при катодній густині струму 1,5–2,0 А/дм2, при цьому вихід за струмом складає близько 70 %, швидкість осадження сплаву –0,44–0,54 мкм/хв. Одержані покриття мають напівблискучий вигляд, дрібнокристалічну структуру, світло–сірий колір, добре зчеплені з основою.