Кафедра "Технічна електрохімія"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/3034

p>Офіційний сайт кафедри https://web.kpi.kharkov.ua/dte

Кафедра "Технічна електрохімія" була заснована в 1930 році в Харківському хіміко-технологічному інституті. У 1931 році її очолив М. А. Рабінович.

Кафедра технології електрохімічних виробництв почала самостійно функціонувати з 1926 року під керівництвом А. В. Терещенка, але офіційно була затверджена лише в 1930 році.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту хімічних технологій та інженерії Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора та 7 кандидатів технічних наук; 1 співробітник має звання професора, 6 – доцента 1 – старшого дослідника.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 10 з 16

Осаждение сплава Аg-Сo в импульсном режиме
(Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут", 2012) Глушкова, Марина Александровна; Ведь, Марина Витальевна; Зюбанова, Светлана Ивановна
Электрохимический синтез пористого кристаллического оксида тантала
(НТУ "ХПИ", 2019) Водолажченко, Сергей Александрович; Ляшок, Лариса Васильевна; Дерибо, Светлана Германовна; Гомозов, Валерий Павлович
Самоорганизация наноразмерных структур при электрохимической обработке наиболее ярко проявляется в ходе формирования пористых анодных оксидов металлов (алюминия, титана, вольфрама, ниобия, тантала). Эти оксиды содержат массивы ориентированных перпендикулярно подложке пор. Отличительной особенностью этих пленок является высокая степень упорядоченности в расположении пор и возможность управляемого варьирования диаметра пор в широком диапазоне (от 10 до 150 нм). В работе исследованы особенности электрохимического формирования нанопористых оксидных покрытий на тантале в кислотно-фторидных и органических электролитах.
Электрохимический синтез окислителя для растворения сплава WC – Co в среде хлористоводородной кислоты
(НТУ "ХПИ", 2018) Османова, Марина Павловна; Ляшок, Лариса Васильевна; Гомозов, Валерий Павлович; Жук, Александр Николаевич
На сегодняшний день потребности промышленности в вольфраме и материалах на его основе в Украине удовлетворяются за счет импорта, поскольку на территории нашего государства отсутствуют природные месторождения этого металла. В то же время, происходит накопление вторичного вольфрамсодержащего сырья (отработанный инструмент, напайки, резцы, сверла и др.), которое является исходным материалом для рециклинга вольфрама. Поэтому, создание технологии для переработки такого сырья является сейчас актуальной задачей. Целью работы является определение основных условий электрохимического растворения псевдосплавов карбидного типа WC – Co в хлористоводородной кислоте с параллельным синтезом окислителя в электролите, для получения конечного продукта в виде высшего оксида вольфрама (WO₃). Методами линейной вольтамперометрии было исследовано анодное поведение сплава в растворах кислот HNO₃, H₂SO₄, HCl. Установлено, что процесс растворения сплава WC – Co может происходить во всех указанных электролитах, однако использование хлористоводородной кислоты является более перспективным потому как, она является менее токсичной, чем концентрированная азотная кислота, и обеспечивает более высокие показатели процесса, в отличие от серной кислоты. Доказано, что растворение сырья в хлористоводородной кислоте существенно зависит от ее концентрации и наиболее оптимальной является концентрация 3 – 4 моль·дм⁻³. Обоснована необходимость введения окислителя в объем электролита и рассмотрена возможность синтеза кислородсодержащих соединений хлора. Выявлено, что сильными окислителями являются хлорная, хлорноватая и хлорноватистая кислоты, синтез которых можно наладить при прямой переработке исходного сырья в хлористоводородной кислоте. Установлено, что в диапазоне рН от 3 до 4 В и при потенциалах от 0,2 до 2,2 В существуют условия для одновременного растворения псевдосплава с образованием WO₃ и генерации кислородсодержащих соединений хлора.
Работоспособность малоизнашиваемых анодов со свинцовым покрытием при анодной поляризации в хромсодержащих растворах
(НТУ "ХПИ", 2006) Лещенко, С. А.; Артеменко, В. М.; Дерибо, Светлана Германовна
Осадження свинцевих покрить з розвинутою поверхнею на сталеву або титанову основу з наступним формуванням на поверхні свинцевого покриття плівки діоксиду свинцю забезпечує виготовлення малозношуваних анодів з підвищеною працездатністю при експлуатації у хромвмісних розчинах.
Электродные процессы на медном и серебряном электродах в растворах на основе органических лигандов
(НТУ "ХПІ", 2016) Матрунчик, Ольга Леонидовна; Беляк, Мария Александровна; Смирнова, Ольга Леонидовна
Закономерности осаждения сплава Fe-Mo из цитратных электролитов
(SeKum Software, 2015) Лагдан, Инна Владимировна; Зюбанова, Светлана Ивановна; Каракуркчи, Анна Владимировна; Ермоленко, Ирина Юрьевна
Анодное растворение серебросодержащих веществ в аммиачно-нитратных растворах
(НТУ "ХПИ", 2013) Борсук, Ольга Николаевна; Байрачный, Борис Иванович; Коваленко, Юлия Ивановна
Электродные процессы осаждения функциональных покрытий Ni, Cu, Ag на пассивные металлы
(НТУ "ХПИ", 2012) Мишина, Е. Б.; Борсук, Ольга Николаевна; Байрачный, Борис Иванович; Коваленко, Юлия Ивановна
Влияние архитектуры мультислойных покрытий Cu/(Ni-Cu) на их пористость
(Технологический центр, 2012) Майзелис, Антонина Александровна; Байрачный, Борис Иванович; Трубникова, Лариса Валентиновна
Приведены результаты определения пористости мультислойных Cu/(Ni-Cu) покрытий. Показано, что использование пирофосфатно-аммонийного электролита позволяет получать качественные слои мультислойного покрытия, что способствует перекрыванию пор и получению беспористых покрытий при толщине 2 мкм.
Равномерность мультислойных Cu/(Ni-Cu) покрытий по толщине
(Технологический центр, 2012) Майзелис, Антонина Александровна; Байрачный, Борис Иванович; Трубникова, Лариса Валентиновна; Иващенко, В. Н.; Сорочинский, В. М.
Приведены результаты определения рассеивающей способности пирофосфатно-аммонийного электролита для осаждения Cu/(Ni-Cu) покрытий. Показано, что увеличение толщины медных слоев и поляризации при их осаждении способствует более равномерному распределению толщины покрытий по поверхности.