Кафедри
Постійне посилання на розділhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/35393
Переглянути
3 результатів
Результати пошуку
Документ Методичні вказівки до виконання лабораторної роботи "Фотолітографія"(2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана ГерманівнаФотолітографія – це метод отримання зображення на поверхні матеріалу, який використовується в мікроелектроніці, у виробництві друкованих плат, а також з метою створення рельєфного зображення на металах. Суть процесу фотолітографії полягає в тому, що на поверхню, яка обробляється, наноситься тонка світлочутлива полімерна плівка – фоторезист, яка засвічується через фотошаблон із заданим малюнком. Далі експоновані ділянки видаляються у проявнику. Малюнок на фоторезисті може використовуватись для локального травлення, електрохімічного осадження, вакуумного напилювання тощо. Після цього залишки фоторезисту також видаляються. Відмінність фотолітографії від інших видів літографії полягає в тому, що експонування здійснюється видимим або ультрафіолетовим світлом, тоді як в інших видах літографії для цього використовується рентгенівське випромінювання (рентгенівська літографія), потік електронів (електронно-променева літографія) або іонів (іонно-променева літографія). Актуальність. Якщо темпи розвитку мікроелектроніки не зміняться, то кожні три роки мінімальний розмір елементів буде зменшуватися з коефіцієнтом 0,7. Для досягнення більш високої роздільної здатності потрібні нові технологічні процеси, маскувальні матеріали і оновлення виробничого обладнання, оскільки кожна фотолітографічна установка має обмеження щодо максимально досяжної роздільної здатності. Дослідження властивостей сухих плівкових фоторезистів є актуальним через недостатність даних про їхні технологічні властивості (хімічну стійкість, роздільну здатність процесу тощо). Мета роботи – ознайомлення з процесами локального хімічного і електрохімічного травлення листової міді з використанням як захисної маски сухого плівкового фоторезисту.Документ Методичні вказівки до виконання курсової роботи "Розробка технологічного процесу нанесення гальванічного покриття"(2023) Лещенко, Сергій Анатолійович; Дерібо, Світлана ГерманівнаКурсова робота присвячена вибору технологічної схеми одержання гальванічних покрить, виходячи з характеристики оброблюваних деталей, функціонального призначення покрить та умов подальшої експлуатації кінцевого виробу. Загальні правила та методика виконання та оформлення текстових документів, що застосовуються у навчальному процесі, структура та зміст курсових робіт, присвячених проектуванню гальванічних дільниць, визначаються системою стандартів з організації навчального процесу НТУ «ХПІ».Документ Моделювання технологічних параметрів синтезу водню розчиненням сплаву АК7 в лужних розчинах(Interdruk, Poland, 2020) Байрачний, Борис Іванович; Забіяка, Наталія Анатоліївна; Байрачний, Володимир Борисович; Руденко, Наталія Олександрівна; Лещенко, Сергій АнатолійовичВ роботі представлені дослідження фізико-хімічних процесів взаємодії сплаву алюмінію АК7 з лужно-галогенідним розчином. В відповідності з даними математичного моделювання за програмою Statistica 6.0 встановлений механізм дії окремих компонентів електроліту на кінетичні характеристики сплаву в заданих межах дії параметрів. Отримані дані свідчать про те, що оптимальними умовами виділення водню є концентрації компонентів електроліту NaOH 2,5 моль/дм3 та NaF 0,2 моль/дм3 при температурі 303 К. Результати моделювання показують лінійне збільшення питомої ваги розчинення сплаву та об`єму виділення водню при одночасній дії цих компонентів. Досліджені умови виділення водню на анодах із сплаву АК7, які визначили густини струму стабільного протікання розчинення.