(Jerozolimskie, Poland, 2016) Надтока, Владимир Николаевич; Андреев, Анатолий Афанасьевич; Соболь, Олег Валентинович; Столбовой, Вячеслав Александрович; Постельник, Анна Александровна; Князев, Сергей Анатольевич
Проведено исследование влияния отрицательного потенциала подложки в вакуумно-ду-говой плазме, давления в вакуумной камере, присутствия аргона и азота, а также расстояния "подложка – катод" на скорость распыления ионами ниобия поверхности подложки и её механические характеристики. Показано, что присутствие аргона в вакуумной камере в пределах 0,04…0,66 Па увеличивает скорость распыления. Присутствие азота приводит к уменьшению скорости распыления. Установлено, что бомбар-дировка ионами испаряемого материала поверхности подложки приводит к увеличению ее твердости. Причиной увеличения твердости является насыщение ее поверхности атомами ниобия, а в присутствии азота дополнительно атомами азота.
