2014

Постійне посилання на розділhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4964

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 3 з 3
  • Ескіз
    Документ
    Влияние давления в плазмохимическом реакторе на процесс плазменной обработки растворов хлорида натрия
    (НТУ "ХПИ", 2014) Захаров, Р. И.; Калашникова, А. Н.; Пивоваров, А. А.; Николенко, Н. В.
    Методом математического моделирования и экспериментально изучено влияние давления в плазмохимическом реакторе на процесс синтеза смесей Н2О2 и ClO2. В качестве параметров оптимизации рассматривали селективность процесса, его скорость и энергозатраты. Определено оптимальное давление и оптимальная продолжительность процесса плазменной обработки растворов NaCl. Для диапазона давлений от 0,1 до 1 атм экспериментально подтверждены рассчитанные величины оптимального времени, при которых достигается максимальная селективность процесса по хлорит-ионам.
  • Ескіз
    Документ
    Импульсное обжатие цилиндрической оболочки
    (НТУ "ХПИ", 2014) Лотоус, В. В.; Наумова, Е. А.; Драгобецкий, В. В.
    В статье приведено описание технологий основанных на действии кумулятивных зарядов взрывчатого вещества на обрабатываемый материал. Рассмотрены вопросы использования энергии взрыва для распада и синтеза химических элементов в кумулятивной струе. Приведено качественное описание процесса обжатия цилиндрической оболочки кумулятивным зарядом взрывчатого вещества. Образующиеся при обжатии оболочки гофры становятся источниками системы кумулятивных струй. Исследования позволили разработать новые технологии взрывного упрочнения и легирования и метод физического моделирования обжатия вязких материалов
  • Ескіз
    Документ
    Электрофизическая установка с высокоградиентным магнитным полем для исследования свойств плазмы отражательного разряда
    (НТУ "ХПИ", 2014) Ковтун, Ю. В.; Озеров, Александр Николаевич; Скибенко, Евгений Иванович; Юферов, Владимир Борисович
    В статье дано описание электрофизической установки с высокоградиентным магнитным полем для исследования свойств плазмы отражательного разряда, что существенно отличает ее от подобных устройств, созданных и описанных в литературе ранее. Рассмотрены основные узлы и системы установки. Рассчитано распределение магнитного поля по оси и радиусу установки. Проведен тепловой расчет соленоидов. Оценена проводимость вакуумной системы. Приведено также описание систем напуска рабочего газа контролируемым способом и диагностики плазмы с указанием измерительных каналов.