Особенности процесса хромирования при подключении к источнику питания индуктивно-емкостного устройства
Дата
2008
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
НТУ "ХПИ"
Анотація
У роботі приведені результати дослідження процесу осадження хрому при різних параметрах індуктивно-ємкісного пристрою. Змінюючи значення індуктивності і ємкості можна робити істотний вплив на кінетику осадження, збільшення продуктивності (2,7 – 3 рази) і зносостійкості (2 рази) осадків.
In paper the experimental dates received at various parameters of the inductance-capacitor device. Varying inductance and capacity under identical conditions of electrolysis, it is possible to change kinetics of plating process, increasing productivity of deposition (2 times) and wear resistance of coating (2,7 – 3 times).
In paper the experimental dates received at various parameters of the inductance-capacitor device. Varying inductance and capacity under identical conditions of electrolysis, it is possible to change kinetics of plating process, increasing productivity of deposition (2 times) and wear resistance of coating (2,7 – 3 times).
Опис
Ключові слова
физико-механические свойства, осаждение, покрытия, износ, электролит
Бібліографічний опис
Гологан В. Ф. Особенности процесса хромирования при подключении к источнику питания индуктивно-емкостного устройства / В. Ф. Гологан, Ж. И. Бобанова, С. Х. Ивашку // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2008. – № 16. – С. 33-36.