Вплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів

dc.contributor.authorСевидова, Олена Костянтинівна
dc.contributor.authorГуцаленко, Юрій Григорович
dc.contributor.authorРуднєв, О. В.
dc.contributor.authorПупань, Л. І.
dc.date.accessioned2024-09-23T11:22:41Z
dc.date.issued2019
dc.identifier.citationВплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів / Севидова О. К., Гуцаленко Ю. Г., Руднєв О. В., Пупань Л. І. // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : наук. вид. : тези доп. 27-ї міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD–2019, [15-17 травня 2019 р.] : у 4 ч. Ч. 1 / ред. Є. І. Сокол. – Харків : НТУ "ХПІ", 2019. – C. 148.
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/81579
dc.language.isouk
dc.publisherНаціональний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
dc.subjectтехнологічні параметри
dc.subjectплазмоелектричний покрив
dc.subjectплазмо-електролітне оксидування
dc.subjectдовільно падаюча потужність
dc.subjectгальваностатичний режим
dc.titleВплив технологічних параметрів на характеристики поверхні плазмоелектролітних покривів
dc.typeArticle

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
MicroCAD_2019_Sevydova_Vplyv_tekhnolohichnykh.pdf
Розмір:
287.7 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.28 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: