Співосадження імпульсним струмом кадмію та телуру в диметилсульфоксидних розчинах
Вантажиться...
Дата
2008
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Видавець
НТУ "ХПІ"
Анотація
Досліджено сумісне електровідновлення кадмію та телуру в 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ диметилсульфоксидних розчинах за 20…60 °С. Показано, що за потенціалів до -2,5 В в режимі імпульсного струму формуються плівкові покриття. Тривалістю імпульсу та паузи й співвідношення між ними регулюється вміст компонентів системи Cd-Те і розмір частинок осаду.
The electrochemical cosedimentation of cadmium and tellurium in 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ dimethylsulfoxide solutions at 20…60 °С was investigated. Thin films forming by pulse plating technique at potentials up to -2.5 V was shown. Components content in Cd-Te system and sediment parts dimensions controlling by pulses and pauses duration and they correlation.
The electrochemical cosedimentation of cadmium and tellurium in 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ dimethylsulfoxide solutions at 20…60 °С was investigated. Thin films forming by pulse plating technique at potentials up to -2.5 V was shown. Components content in Cd-Te system and sediment parts dimensions controlling by pulses and pauses duration and they correlation.
Опис
Ключові слова
електровідновлення, плівкові покриття, електроліз, осад, тривалість імпульсу
Бібліографічний опис
Калимон Я. А. Співосадження імпульсним струмом кадмію та телуру в диметилсульфоксидних розчинах / Я. А. Калимон, О. І. Білань, О. І. Кунтий // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2008. – № 16. – С. 43-45.