Співосадження імпульсним струмом кадмію та телуру в диметилсульфоксидних розчинах
Loading...
Date
Authors
ORCID
DOI
item.page.thesis.degree.name
item.page.thesis.degree.level
item.page.thesis.degree.discipline
item.page.thesis.degree.department
item.page.thesis.degree.grantor
item.page.thesis.degree.advisor
item.page.thesis.degree.committeeMember
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
НТУ "ХПІ"
Abstract
Досліджено сумісне електровідновлення кадмію та телуру в 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ диметилсульфоксидних розчинах за 20…60 °С. Показано, що за потенціалів до -2,5 В в режимі імпульсного струму формуються плівкові покриття. Тривалістю імпульсу та паузи й співвідношення між ними регулюється вміст компонентів системи Cd-Те і розмір частинок осаду.
The electrochemical cosedimentation of cadmium and tellurium in 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ dimethylsulfoxide solutions at 20…60 °С was investigated. Thin films forming by pulse plating technique at potentials up to -2.5 V was shown. Components content in Cd-Te system and sediment parts dimensions controlling by pulses and pauses duration and they correlation.
The electrochemical cosedimentation of cadmium and tellurium in 0,5 М CdCl₂ + (0,01...0,1) М ТeCl₄ dimethylsulfoxide solutions at 20…60 °С was investigated. Thin films forming by pulse plating technique at potentials up to -2.5 V was shown. Components content in Cd-Te system and sediment parts dimensions controlling by pulses and pauses duration and they correlation.
Description
Citation
Калимон Я. А. Співосадження імпульсним струмом кадмію та телуру в диметилсульфоксидних розчинах / Я. А. Калимон, О. І. Білань, О. І. Кунтий // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Химия, химическая технология и экология. – Харьков : НТУ "ХПИ", 2008. – № 16. – С. 43-45.
