Экспресс метод анализа морфологических параметров графеновых покрытий на медной подложке

dc.contributor.authorСоболь, Олег Валентиновичru
dc.contributor.authorКолупаев, Игорь Николаевичru
dc.contributor.authorМураховский, Александр Владимировичru
dc.contributor.authorЛевицкий, В. С.ru
dc.contributor.authorКольцова, Т. С.ru
dc.contributor.authorКозлова, М. В.ru
dc.contributor.authorЛарионова, Татьяна Юрьевнаru
dc.contributor.authorСоболь, В. О.ru
dc.date.accessioned2022-11-11T11:44:47Z
dc.date.available2022-11-11T11:44:47Z
dc.date.issued2016
dc.description.abstractДля получения слоев графена на медной подложке использована CVD технология в газовой смеси метана, водорода и аргона. Наряду с традиционными методами исследования морфологии роста, такими как спектроскопия комбинационного рассеяния света и атомно-силовая микроскопия, в работе для экспресс оценки степени заполнения и удельной площади областей графена использовался метод многопороговых сечений с 3-х мерным представление изображения оптической микроскопии, где в качестве третей оси Z используется шкала интенсивности. На основе полученных результатов сделаны выводы о закономерностях формирования графеновых слоев. Выявлено наличие наиболее вероятных площадей формирования графеновых доменов (~ 13 мкм²) при небольшом времени (10-20 минут) процесса получения. Увеличение времени процесса до 30 минут сопровождается повышением однородности распределения площадей формируемых доменов графена в диапазоне до 200 мкм² при высокой их фрактальной размерности в диапазоне значений HD 1,82 ... 2 0.ru
dc.description.abstractCVD method of a gas mixture of methane, hydrogen and argon was used for condensation of graphene layers on the copper substrate. Along with traditional methods of growth morphology studies, such as Raman spectroscopy and atomic force microscopy, the work for the rapid assessment of the degree of filling and the specific area of the graph area used the method multithreshold sections with a 3-dimensional representation of the image of the optical microscope, where the third Z-axis using the intensity scale. On the basis of the results obtained conclusions about the patterns of formation of graphene layers. Presence of the most likely areas of formation of graphene domains (~ 13 mm²) with a small time (10-20 minutes) of the production process. Increasing the process time of 30 minutes accompanied by increased uniformity of distribution space formed between the graphene domains to 200 mm² high fractal dimension of the range of values HD 1,82 ... 2 0.en
dc.identifier.citationЭкспресс метод анализа морфологических параметров графеновых покрытий на медной подложке / О. В. Соболь [и др.] // Журнал нано- и электронной физики = Journal of Nano- and Electronic Physics. – 2016. – Т. 8, № 4 (1). – С. 04013-1–04013-5.ru
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0001-5156-7371
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-2125-7118
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/59144
dc.language.isoru
dc.publisherСумской государственный университетru
dc.subjectтехнология CVDru
dc.subjectспектры комбинационного рассеянияru
dc.subjectоптическая микроскопияru
dc.subjectморфология покрытийru
dc.subjectкомпьютерная обработкаru
dc.subjectмультипороговый анализru
dc.subjectусловия зарожденияru
dc.subjectgraphene coating on copperen
dc.subjectthe CVD technologyen
dc.subjectraman spectraen
dc.subjectoptical microscopyen
dc.subjectthe morphology of the coatingen
dc.subjectcomputer processingen
dc.subjectmulti-threshold analysesen
dc.subjectnucleation conditionsen
dc.titleЭкспресс метод анализа морфологических параметров графеновых покрытий на медной подложкеru
dc.title.alternativeExpress Method of Analysis Morphological Parameters of Graphene Coatings on a Copper Substrateen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
JNEP_2016_8_4_Sobol_Ekspress_metod.pdf
Розмір:
584.83 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.25 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: