Structure, thermal stability and reflectivity of Sc/Si and Sc/W/Si/W multilayer X-ray mirrors

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorVinogradov, A. V.en
dc.contributor.authorPershin, Yu. P.en
dc.contributor.authorZubarev, Evgeniy N.en
dc.contributor.authorVoronov, D. L.en
dc.contributor.authorPen’kov, A. V.en
dc.contributor.authorKondratenko, V. V.en
dc.contributor.authorUspenskii, Yu. A.en
dc.contributor.authorArtioukov, I. A.en
dc.contributor.authorSeely, J. F.en
dc.date.accessioned2022-06-27T15:25:05Z
dc.date.available2022-06-27T15:25:05Z
dc.date.issued2001
dc.description.abstractProcesses going on at elevated temperatures between Sc and Si layers in Sc/Si coatings are studied by X-ray scattering and cross-sectional transmission electron microscopy. It is shown that the W layers of 0.5-0.8nm placed at Sc-Si interfaces form effective barriers preventing the penetration of Si into Sc. The effects of Si-Sc diffusion and W-barriers on the reflectivity of coatings are calculated in good agreement with experimental results. Presented measurements show that the Sc/W/Si/W multilayers with the period of 20.5 nm fabricated by dc-magnetron sputtering possess thermal stability up to 250 C and the normal incidence reflectivity of 24% at wavelengths about 40 nm.en
dc.identifier.citationStructure, thermal stability and reflectivity of Sc/Si and Sc/W/Si/W multilayer X-ray mirrors / A. V. Vinogradov [et al.] // Soft X-Ray Lasers and Applications IV : Proc. SPIE. – San-Diego, CA (USA), 2001. – Vol. 4505. – P. 230-235.en
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/57492
dc.language.isoen
dc.publisherSPIEen
dc.subjectEUV opticsen
dc.subjectmultilayeren
dc.subjectthermal stabilityen
dc.subjectоптикаuk
dc.subjectтермостабільністьuk
dc.subjectбагатошарові рентгенівські дзеркалаuk
dc.titleStructure, thermal stability and reflectivity of Sc/Si and Sc/W/Si/W multilayer X-ray mirrorsen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
SPIE_2001_4505_Vinogradov_Structure_thermal.pdf
Розмір:
418.34 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.25 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Колекції

Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"