The Effect of Constant and High Voltage Pulse Bias Potentials on the Structure and Properties of Vacuum-Arc (TiVZrNbHf)Nₓ Coatings

Скорочена інформація про документ
dc.contributor.authorSobol, O. V.en
dc.contributor.authorPostelnyk, A. A.en
dc.contributor.authorMygushchenko, R. P.en
dc.contributor.authorGorban, V. F.en
dc.contributor.authorStolbovoy, V. A.en
dc.contributor.authorZvyagolskiy, A. V.en
dc.date.accessioned2023-01-07T12:58:44Z
dc.date.available2023-01-07T12:58:44Z
dc.date.issued2018
dc.description.abstractThe effect of constant (Ub) and high voltage pulse (Uip) bias potentials supplied to the substrate during condensation, on the structure and properties of vacuum-arc (TiVZrN-Hf)Nх coatings has been studied. It has been determined that the number and size of the drop phase decreases with increasing Ub. The use of Uip promotes a more uniform growth in the coating volume. It is shown that due to the increase of Ub from 0 to 200 V in nitride coatings of high entropy alloys, it is possible to change the growth texture [100] to [111]. This results in increased hardness from 32 GPa to 49 GPa. The supply of high voltage potential in a pulse form leads to a relative decrease in the average size of crystallites and the formation of a bi-texture state. Conditions and mechanisms of the preferential crystallites orientation (axial texture) of vacuum arc (TiVZrNbHf)Nх coatings and texture influence on mechanical properties have been discussed.en
dc.description.abstractДосліджено вплив постійного (Ub) і високовольтного імпульсного (Uip) потенціалів зміщення, що подаються на підкладку при конденсації, на структуру і властивості вакуумно-дугових (TiVZrNbHf)Nх покриттів. Встановлено, що зі збільшенням Ub зменшується число і розмір крапельної фази. Використання Uip сприяє однорідної морфології зростання в об'ємі покриття. Показано, що за рахунок збільшення Ub від 0 до 200 В в нітридних покриттях високоентропійних сплавів можна змінити текстуру росту [100] на [111]. Це призводить до збільшення твердості від 32 ГПа до 49 ГПа. Подача високовольтного потенціалу в імпульсної формі призводить до відносного зменшення середнього розміру крист алітів і формуванню бітекстурного стану. Обговорено умови і механізми формування переважної орієнтації кристалітів (аксіальної текстури) вакуумно-дугових (TiVZrNbHf)Nх покриттів і вплив текстури на механічні властивості.uk
dc.identifier.citationThe Effect of Constant and High Voltage Pulse Bias Potentials on the Structure and Properties of Vacuum-Arc (TiVZrNbHf)Nₓ Coatings / O. V. Sobol [et al.] // Journal of Nano- and Electronic Physics. – 2018. – Vol. 10, No. 2. – P. 02035-1–02035-6.en
dc.identifier.doidoi.org/10.21272/jnep.10(2).02035
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-4497-4419
dc.identifier.orcidhttps://orcid.org/0000-0002-5290-7566
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/60958
dc.language.isoen
dc.publisherSumy State Universityen
dc.subjectvacuum arcen
dc.subjectstructural engineeringen
dc.subjectbias potentialen
dc.subjectpulse potentialen
dc.subjectphase compositionen
dc.subjectstructureen
dc.subjecthardnessen
dc.subjectструктурна інженеріяuk
dc.subjectтвердістьuk
dc.subjectнапругаuk
dc.subjectмеханічні властивостіuk
dc.subjectімпульсиuk
dc.titleThe Effect of Constant and High Voltage Pulse Bias Potentials on the Structure and Properties of Vacuum-Arc (TiVZrNbHf)Nₓ Coatingsen
dc.title.alternativeВплив постійного і високовольтного імпульсного потенціалів зміщення на структуру і властивості вакуумно-дугових (TiVZrNbHf)Nₓ покриттівuk
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
JNEP_2018_10_2_Sobol_The_effect.pdf
Розмір:
613.94 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:
Завантажити
Ліцензійна угода
Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.25 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис:
Завантажити

Зібрання

Кафедра "Матеріалознавство"