Кафедра "Інтегровані технології машинобудування ім. М. Ф. Семка"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/3115

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/cutting

Від 2005 року кафедра має назву "Інтегровані технології машинобудування" ім. М. Ф. Семка, попередня назва – "Різання матеріалів та різальні інструменти".

Кафедра заснована в 1885 році. Свої витоки вона веде від кафедри механічної технології (у подальшому – кафедра загального машинобудування, кафедра холодної обробки матеріалів, кафедра різання матеріалів та різальних інструментів).

Засновником і першим завідувачем кафедри був фундатор технологічної підготовки інженерів-механіків в ХТПІ Костянтин Олексійович Зворикін.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту механічної інженерії і транспорту Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут і є провідним науково-дослідним і освітнім центром України в галузі високих інтегрованих технологій у машинобудуванні. У науковій школі кафедри різання матеріалів підготовлені 18 докторів технічних наук і 104 кандидата технічних наук.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора технічних наук, 9 кандидатів технічних наук; 3 співробітника мають звання професора, 6 – доцента.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    Corrosion durability of nanostructured tialyn coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma
    (Национальный научный центр "Харьковский физико-технический институт", 2015) Vasyliev, V. V.; Luchaninov, A. A.; Sevidova, E. K.; Strel'nitskij, V. E.
    The electrochemical characteristics of nanostructured TiAlYN coatings deposited on 12X18H10T steel substrates are investigated in 3% aqueous solution of NaCl. The coatings were deposited from filtered vacuum-arc plasma by PIII&D method. Measurements of corrosion potentials Ecor and anodic polarization curves showed that the best protection against galvanic corrosion (GC) provides TiA1YN coating containing 0.2 at.% Y deposited on the substrate when applying pulsed bias potential of -1.5 kV amplitude. Addition DC bias potential of -150 V to pulse one leads to deterioration of the protective properties: activation potential of anodic processes (APAP) decreases in 3…4 times. Increase in TiA1YN coatings deposition rate promotes improvement their protective properties due to improved adhesion and decreased level of residual stress.