Кафедра "Фізика"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/7578

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/tef

Кафедра "Фізика" створена у 2016 році шляхом об'єднання кафедри "Загальна та експериментальна фізика" і кафедри "Теоретична та експериментальна фізика", заснованої в 1972 році. .

У 1885 р. для викладання в інституті курсу фізики на посаду ад’юнкт-професора був запрошений магістр фізики приват-доцент Харківського університету Олександр Костянтинович Погорілко. У різні роки на кафедрі працювали видатні вчені-фізики: Пільчиков Н. Д., Латишев Г. Д., Обреїмов І. В., Пінес Б. Я., Ландау Л. Д., Корсунський М. І., Веркин Б. І., Дмитренко І. М., Базакуца В. А., Кулик І. О., Янсон І. К., Басс Ф. Г. Гуревич Ю. Г., Косевич В. М., Кукушкін Л. С. та ін.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора та 16 кандидатів фізико-математичних наук, 2 кандидата технічних наук, 1 кандидат педагогічних наук; 2 співробітника мають звання професора, 12 – доцента.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 3 з 3
  • Ескіз
    Документ
    Growth and Structural Characterization of Thermally Evaporated Topological Insulator Bi2Se3 Thin Films
    (NanoCOFC, 2018) Rogachova, E. I.; Fedorov, A. G.; Krivonogov, S. I.; Mateychenko, P. V.; Dobrotvorskaya, M. V.; Garbuz, Alexander G.; Sipatov, A. Yu.
  • Ескіз
    Публікація
    Growth and structure of thermally evaporated Bi2Te3 thin films
    (Elsevier, 2016) Rogacheva, E. I.; Budnik, A. V.; Dobrotvorskaya, M. V.; Fedorov, A. G.; Krivonogov, S. I.; Mateychenko, P. V.; Nashchekina, O. N.; Sipatov, A. Yu.
    The growth mechanism, microstructure, and crystal structure of the polycrystalline nBi2Te3 thin films with thicknesses d = 15 – 350 nm, prepared by thermal evaporation in vacuum onto glass substrates, were studied. Bismuth telluride with Te excess was used as the initial material for the thin film preparation. The thin film characterization was performed using X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy, energy-dispersive X-ray spectroscopy, scan electron microscopy, and electron force microscopy. It was established that the chemical composition of the prepared films corresponded rather well to the starting material composition and the films did not contain any phases apart from Bi2Te3. It was shown that the grain size and the film roughness increased with increasing film thickness. The preferential growth direction changed from [00l] to [015] under increasing d. The X-ray photoelectron spectroscopy studies showed that the thickness of the oxidized surface layer did not exceed 1.5 – 2.0 nm and practically did not change in the process of aging at room temperature, which is in agreement with the results reported earlier for single crystals. The obtained data show that using simple and inexpensive method of thermal evaporation in vacuum and appropriate technological parameters, one can grow n-Bi2Te3 thin films of a sufficiently high quality.
  • Ескіз
    Документ
    Dependences of thermoelectric properties on the thickness of thin films of indium doped lead telluride
    (Institute of Thermoelectricity, 2014) Menshikova, S. I.; Rogacheva, E. I.; Sipatov, A. Yu.; Matychenko, P. V.; Dobrotvorskaya, M. V.
    Dependences of thermoelectric properties (the Seebeck coefficient S, the electric conductivity σ, the Hall coefficient RH, the carrier mobilityμ and the thermoelectric power P = S²·σ) on the thickness d (d = 10 – 255 nm) of thin films prepared by vacuum evaporation of indiumdoped PbTe crystals and subsequent condensation on (111) BaF₂ substrates were obtained. With decreasing thickness of films to d ≈ 40 nm, there is n- to p-type inversion of conduction which is related to a change in thermodynamic equilibrium conditions and partial reevaporation of lead and/or indium atoms. Extremes were found on the thickness dependences of properties at d₁ ≈ 20 nm which is indicative of hole gas quantization. In the range of thicknesses with n-type conduction there is a smooth change in thermoelectric properties with thickness which testifies to manifestation of classical size effect and is sufficiently well described in the framework of the Fuchs-Sondheimer theory.