Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4703

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fmp

Від 2002 року кафедра має назву "Фізика металів і напівпровідників", попередня назва – кафедра металофізики.

Кафедра металофізики організована в 1930 році у складі фізико-механічного факультету ХММІ. Деканом факультету був у ті роки видатний вчений-фізик, академік Іван Васильович Обреїмов.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За час існування кафедрою підготовлено близько 3000 інженерів, у тому числі і для зарубіжних країн.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора та 2 кандидата фізико-математичних наук; 3 співробітника мають звання професора.

Переглянути

Фільтри

20181

Налаштування

Автор: search.filters.author.Aksenov, N. N.Ключові слова: search.filters.subject.copper samples

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    Features of surface modification of copper-based alloys under powerful plasma exposures
    (Kharkiv Institute of Physics and Technology, 2018) Byrka, O. V.; Aksenov, N. N.; Chunadra, A.; Fomina, L.; Herashchenko, S. S.; Makhlai, V. A.; Malykhin, S. V.; Sereda, K.; Surovitskiy, S. V.; Garkusha, I. E.
    Paper presents features of plasma alloying of Cu-based materials with Ti-Cr, Ti-Cr-Ti-Nb, Ti-Cr-Ti-Zr, Ti-Cr-Ti-ZrO coatings in different regimes of the QSPA Kh-50. Targets were made from copper samples covered of multilayer PVD coatings have been deposited within a Bulat-type facility. Prepared targets were irradiated with powerful plasma streams with energy loads achieved 0.6 MJ/m² and the pulse duration of 0.25 ms. Influence of plasma impacts on modification different copper alloys has been analyzed. Mechanisms of modification of thin multilayered coatings mixed with Сu substrate in a liquid phase under the plasma processing are evaluated.