Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4703

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fmp

Від 2002 року кафедра має назву "Фізика металів і напівпровідників", попередня назва – кафедра металофізики.

Кафедра металофізики організована в 1930 році у складі фізико-механічного факультету ХММІ. Деканом факультету був у ті роки видатний вчений-фізик, академік Іван Васильович Обреїмов.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За час існування кафедрою підготовлено близько 3000 інженерів, у тому числі і для зарубіжних країн.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора та 2 кандидата фізико-математичних наук; 3 співробітника мають звання професора.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    Thermoresistive multilayer mirrors antidiffusion barriers for work at the wavelengths 40-50nm
    (American Institute of Physics, 2002) Voronov, Dmitriy L.; Zubarev, Evgeniy N.; Kondratenko, Valeriy V.; Penkov, Alexey V.; Pershin, Yuriy P.; Ponomarenko, Alexander G.; Artioukov, Igor A.; Vinogradov, Alexander V.; Uspenskii, Yuriy A.
    To improve the thermal stability of Si/Sc multilayer mirrors, thin layers of W were deposited at interlayer boundaries. Using X-ray scattering and transmission electron microscopy, we studied the interaction of Si and Sc layers at elevated temperatures. It was shown that the W layers of 0.5-0.8 nm thickness form dense WSi2 barriers, which prevent a direct contact between Si and Sc and greatly slow down the formation of scandium silicides. Presented measurements show that Si/W/Sc/W multilayers fabricated by de-magnetron sputtering possess long thermal stability up to 250° C and the normal incidence reflectivity of 24 %.