Кафедра "Матеріалознавство"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/6927

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/mtrlvd

Від 2007 року кафедра має назву "Матеріалознавство", первісна назва – "Металознавство та термічна обробка металів".

Кафедра "Металознавство та термічна обробка металів" створена у 1932 році. Першим її очільником став доктор технічних наук, професор Олександр Володимирович Терещенко.

Кафедра являє собою одну із найстаріших в політехнічному інституті з підготовки інженерів-технологів-дослідників. Своїми науковими дослідженнями. з початку своєї діяльності, кафедра сприяла розвитку та удосконаленню технологій термічної та хіміко-термічної обробки деталей на підприємствах України».

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту механічної інженерії і транспорту Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут".

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 1 доктор технічних наук, 9 кандидатів технічних наук, 3 кандидата фізико-математичних наук, 1 доктор філософії; 1 співробітник має звання професора, 8 – доцента, 1 – старшого наукового співробітника.

Переглянути

Фільтри

20171

Налаштування

Автор: search.filters.author.Stolbovoy, V. A.DOI: search.filters.doi.doi.org/10.15587/1729-4061.2017.91788

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
  • Ескіз
    Документ
    A study of an effect of the parameters of niobium-based ion cleaning of a surface on its structure and properties
    (PC тесhnology сеntеr, 2017) Postelnyk, H. O.; Knyazev, S.; Meylekhov, A. A.; Stolbovoy, V. A.; Kovteba, D. V.
    The paper describes using techniques of structural engineering in a comprehensive study of the effects of the negative displacement potential, nitrogen and argon pressures, as well as the distance from a sample to the cathode on the processes of sputtering and depositing. In practice, it is highly important to obtain steel surfaces with high mechanical properties and low roughness. The highest microhardness is manifested at the highest degree of sputtering on the samples at Ub=–1,300 V. It has been determined that the presence of nitrogen in the vacuum chamber shifts the equilibrium point of sputtering and depositing towards a higher Ub. It has been established that the presence of argon in the ion bombardment process increases the sputtering rate, whereas the presence of active nitrogen gas reduces the deposition rate due to nitride formations on the surface. The point “sputtering-depositing” shifts: in the case of Ar (from Ub=–350 V to Ub=–200...–300 V) when the RN increases from 0.002 Pa to 0.66 Pa, respectively. In the case of nitrogen, when PN increase from 0.02 Pa to 0.08 Pa, the point shifts from Ub=–400 V to Ub=–600 V (at a distance of 300 mm from the cathode to the sample).