Кафедра "Фізична хімія"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/1402

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fchem

Кафедра "Фізична хімія" заснована в 1926 році професором Олександром Миколайовичом Щукарьовим. Свої витоки вона веде від 1918 року, коли кафедра хімії розділилася на кафедри неорганічної, органічної, аналітичної і фізичної хімії.

У різні роки нею керували професори Ілля Іванович Стрєлков, Сергій Степанович Уразовський, Аркадій Юхимович Луцький, Володимир Мойсейович Кошкін. Від 2012 року кафедру очолює доктор технічних наук, професор Микола Дмитрович Сахненко, академік АН Вищої освіти України.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту хімічних технологій та інженерії Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". Наукова школа кафедри включає понад 90 кандидатів і докторів наук.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 2 доктора та 2 кандидата технічних наук, 1 кандидат хімічних наук; 1 співробітник має звання професора, 2 – доцента, 1 – старшого наукового співробітника, 1 – старшого дослідника.

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 4 з 4
  • Ескіз
    Документ
    Спосіб одержання каталізаторів очистки відпрацьованих газів від монооксиду вуглецю
    (ДП "Український інститут промислової власності", 2012) Ведь, Марина Віталіївна; Сахненко, Микола Дмитрович; Глушкова, Марина Олександрівна; Зюбанова, Світлана Іванівна
    Спосіб одержання каталізаторів очистки відпрацьованих газів від монооксиду вуглецю, що полягає в осадженні активного шару на металеву основу, причому активний шар формують електроосадженням в одну стадію в імпульсному режимі при густинах струму 0,5-10 А/дм²; шпаруватості 5-11, частоті імпульсів 18-40 Гц впродовж 5-20 хвилин з електроліту, що містить натрію пірофосфат, натрію цитрат та катіони співосаджуваних металів.
  • Ескіз
    Документ
    Спосіб нанесення гальванічного покриття сплавами заліза для зміцнення поверхні деталей зі сталі та чавуну
    (ДП "Український інститут промислової власності", 2016) Ведь, Марина Віталіївна; Каракуркчі, Ганна Володимирівна; Сахненко, Микола Дмитрович; Зюбанова, Світлана Іванівна; Єрмоленко, Ірина Юріївна
    Винахід стосується гальванотехніки, використовується в хімічній та машинобудівній промисловості. Спосіб полягає в катодному осадженні з комплексного цитратного електроліту, процес проводять при температурі 20-25 °C, імпульсному струмі амплітудою 3,5-6,0 А/дм² при тривалості імпульсу 5·10⁻³-1·10⁻² с та паузи 1·10⁻²-2·10⁻² с з електроліту складу, моль/дм³: сульфат заліза (III) - 0,1 - 0,15; молібдат натрію - 0,06-0,08; вольфрамат натрію - 0,04-0,06; цитрат натрію - 0,2-0,3; сульфат натрію - 0,1-0,15; борна кислота - 0,1. Технічний результат: спосіб, що заявляється, дозволяє наносити покриття з підвищеною мікротвердістю та корозійною тривкістю для деталей зі сталі та чавуну з вмістом молібдену 25-40 % мас. та вольфраму 6-9 % у сплаві при виході за струмом 65-85 %.
  • Ескіз
    Документ
    Спосіб нанесення покриттів залізо-молібден
    (ДП "Український інститут промислової власності", 2014) Ведь, Марина Віталіївна; Каракуркчі, Ганна Володимирівна; Сахненко, Микола Дмитрович; Зюбанова, Світлана Іванівна
    Спосіб нанесення покриттів залізо-молібден, по якому процес проводять при температурі 20- 25 °C у гальваностатичному режимі при густини струму від 3,0 до 6,5 А/дм2 або уніполярним імпульсним струмом з амплітудою 3,0-7,5 А/дм² при тривалості імпульсу 5·10⁻³ - 1·10⁻² та паузи 1·10⁻² - 2·10⁻² с.
  • Ескіз
    Документ
    Гальванічне покриття сплавами заліза для зміцнення поверхні деталей зі сталі та чавуну
    (ДП "Український інститут промислової власності", 2014) Ведь, Марина Віталіївна; Каракуркчі, Ганна Володимирівна; Сахненко, Микола Дмитрович; Зюбанова, Світлана Іванівна; Єрмоленко, Ірина Юріївна
    Гальванічне покриття сплавами заліза для зміцнення поверхні деталей зі сталі та чавуну, отримане шляхом осадження з комплексного цитратного електроліту на основі сульфату заліза (III). Крім цього, до складу покриття додатково вводиться вольфрам, процес катодного осадження проводять при температурі 20-25 °C імпульсним струмом амплітудою 3,5-6 А/дм² при тривалості імпульсу 5·10⁻³ - 1·10⁻² та паузи 1·10⁻² - 2·10⁻².