Кафедри

Постійне посилання на розділhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/35393

Переглянути

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    Структурная инженерия многослойной системы TiN/CrN, полученной вакуумно-дуговым испарением
    (Сумський державний університет, 2015) Соболь, Олег Валентинович; Андреев, Анатолий Афанасьевич; Горбань, Виктор Федорович; Столбовой, Вячеслав Александрович; Пинчук, Наталия Владимировна; Мейлехов, Андрей Александрович
    Методами рентгеновской дифрактометрии, электронной микроскопии и микроиндентирования исследованы фазовый состав, структура, субструктура и твердость вакуумно-дуговых многослойных покрытий системы TiN / CrN, полученных в интервале давления азота 1x10 – 5…5x10 – 3 Торр при подаче постоянного и импульсного отрицательного потенциала смещения. Установлено формирование двухфазного состояния с преимущественной ориентацией роста кристаллитов. При высоком давлении (1…5)x10 – 3 Торр и подаче отрицательного постоянного потенциала смещения: Uпп = – 20 В – ось текстуры [100], при – 230 В – ось текстуры [111]. Основываясь на исследованиях субструктурного состояния, установлена связь перехода в сверхтвердое (до 57 ГПа) состояние с уменьшением микродеформации и размера кристаллитов в TiN слоях.
  • Ескіз
    Документ
    Закономерности формирования структуры покрытий CrN, полученных вакуумно-дуговым испарением в атмосфере азота
    (Сумской государственный университет, 2015) Соболь, Олег Валентинович; Андреев, Анатолий Афанасьевич; Столбовой, Вячеслав Александрович; Пинчук, Наталия Владимировна; Мейлехов, Андрей Александрович
    Рассмотрены вопросы структурной инженерии покрытий системы Cr-N, полученных вакуумно-дуговым испарением катода Cr в азотной атмосфере. В качестве изменяемых физико-технологических параметров использовались: давление азотной атмосферы (3,5…48) 10 – 4 Торр и отрицательный потенциал смещения, подаваемый на подложку в постоянном (Ub – 120 В) и импульсном (Uip – 1200 В) режимах. Увеличение давления без импульсного воздействия позволяет переходить от Cr + Cr2N фаз к текстурированным кристаллитам CrN фазы с осью [111]. Переход от металлической фазы к нитридной сопровождается уменьшением среднего размера кристаллитов. Дополнительная подача импульсного потенциала позволяет интенсифицировать процесс образования нитридов и стимулирует при высоких давлениях формирование радиационно-стойкой тестуры с осью [110].