Mechanisms of radiation damage to Sc/Si multilayer mirrors under EUV laser irradiation
Вантажиться...
Дата
2009
ORCID
DOI
doi.org/10.1088/0022-3727/42/12/125407
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник
Члени комітету
Видавець
IOP Publishing Ltd
Анотація
Specific structural changes in Sc/Si multilayer mirrors irradiated with extreme ultraviolet (EUV) laser single pulses (λ = 46.9 nm) at near damage threshold fluences (0.04–0.23 J cm−2) are analysed. We have identified melting of surface layers as the basic degradation mechanism for the mirrors. Both heat generation during silicide formation and low heat conduction of the layered system significantly decreases the degradation threshold of Sc/Si multilayer mirrors compared with bulk materials. The results are relevant to the use of the multilayer mirrors for shaping and directing the intense beams produced by the new generation of coherent EUV sources
Опис
Ключові слова
specific structural changes in Sc/Si multilayer mirrors irradiated, melting of surface layers, degradation mechanism for the mirrors, cпецифічні структурні зміни в опромінених багатошарових дзеркалах Sc/Si, плавлення поверхневих шарів, механізм деградації дзеркал
Бібліографічний опис
Mechanisms of radiation damage to Sc/Si multilayer mirrors under EUV laser irradiation / Y. P. Pershyn [et al.] // Journal of Physics D: Applied Physics. – Bristol (united Kingdom), 2009. – Vol. 42. – P. 1-11.