Спосіб формування фотокаталітичних покриттів змішаними оксидами цинку та кобальту на цинковій платформі

Abstract

У способі формування фотокаталітичних покриттів на цинковій платформі з водних розчинів лужних електролітів водні розчини лужних електролітів містять сполуки кобальту (II). Оксидне покриття формують на матриці основного металу - монокристалічного цинку - у гальваностатичному режимі при робочій напрузі 2-4 В та густині струму 0,20-0,50 А/дм2, при рН електроліту 9-11 з постійним перемішуванням за температури 40-60 °C впродовж 10-20 хвилин.