Рост кристаллов при электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок HfO₂

dc.contributor.authorБагмут, Александр Григорьевичru
dc.contributor.authorБагмут, Иван Александровичru
dc.contributor.authorНиколайчук, Григорий Павловичru
dc.contributor.authorРезник, Н. А.ru
dc.date.accessioned2018-11-05T09:27:00Z
dc.date.available2018-11-05T09:27:00Z
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationРост кристаллов при электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок HfO₂ / А. Г. Багмут [и др.] // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : наук. вид. : тези доп. 26-ї міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD–2018, [16-18 травня 2018 р.] : у 4 ч. Ч. 1 / ред. Є. І. Сокол. – Харків : НТУ "ХПІ", 2018. – С. 315.ru
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/38234
dc.language.isoru
dc.publisherНТУ "ХПІ"uk
dc.subjectдиоксид гафнияru
dc.subjectэлектронный лучru
dc.subjectдендритная полиморфная кристаллизацияru
dc.subjectразмерно-фазовый эффектru
dc.titleРост кристаллов при электронно-лучевой кристаллизации аморфных пленок HfO₂ru
dc.typeThesisen

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
MicroCAD_2018_Bagmut_Rost.pdf
Розмір:
677.76 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format
Опис:

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.25 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: