Модифікація нанорельєфу методом електронно-променевої мікрообробки

Abstract

Представлені результати мікрообробки електронним променем стрічкової форми поверхонь оптичних стекол К8, К108 з початковим нанорельєфом поверхні 15-22 нм після промислового шліфування та полірування. За результатами досліджень із застосуванням атомно-силової мікроскопії встановлено, що після електронно-променевої мікрообробки нанорельєф зменшився до значень 1,5…2,2 нм, що задовольняє вимогам до поверхонь оптичних інтегральних схем.

The article represents the results of ribbon beam electron ray micromachining of optical glasses K8 and K108 surfaces with the initial nanorelief surface of 15-22 nm after the industrial grounding and polishing. After the application of atomic force microscopy, it was investigated that a nanorelief diminished to the values of 1,5…2,2 nm after a micromachining. This fulfills the requirements to the board surfaces of the optical integrated schemes.