Culturological aspect while studying a foreign language

dc.contributor.authorSheina, L. O.en
dc.date.accessioned2023-11-23T13:37:22Z
dc.date.available2023-11-23T13:37:22Z
dc.date.issued2023
dc.identifier.citationSheina L. O. Culturological aspect while studying a foreign language / L. O. Sheina // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : тези доп. 31-ї міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD–2023, [17-20 травня 2023 р.] / гол. Є. І. Сокол ; уклад. Г. В. Лісачук. – Харків : НТУ "ХПІ", 2023. – С. 878.en
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/71113
dc.language.isoen
dc.publisherНаціональний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"uk
dc.subjectforeign studentsen
dc.subjectcultural patternsen
dc.subjectoriginal cultural patternsen
dc.subjectconditionsen
dc.subjectmulticulturalismen
dc.titleCulturological aspect while studying a foreign languageen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
MicroCAD2023_Sheina_Culturological_aspect.pdf
Розмір:
206.7 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.25 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: