Особенности получения стеклокристаллических материалов с низким ТКЛР в системе PbO-ZrO2-R2O3-SiO2

Abstract

В статье рассмотрена возможность создания стеклоприпоев с низким коэффициентом линейного расширения и температурой наплавления для спаивания деталей микроэлектроники с высоким содержанием кремния. Установлены области стеклообразования в системе PbO–B2O3–Al2O3–ZrO2–SiO2 и характер распределения значений коэффициента линейного расширения стекла. Синтезированы образцы стекол, определена их способность к кристаллизации. Получены образцы стеклоприпоев и исследованы их технологические свойства. Сделаны выводы о возможности практического применения синтезированных стеклоприпоев.

The article considers the possibility of creating a frit with a low coefficient of linear expansion and fusing temperature for soldering components of microelectronics with high silicon content. The areas of glass formation in the system PbO-B2O3-Al2O3-ZrO2-SiO2 and the distribution of values of the coefficient of linear expansion of the glass. Synthesized glass samples and determined their ability to crystallize. Samples frit and explore their technological properties. Conclusions about the practical application of the synthesized frit.