Математическое моделирование изменения толщины оксидного пленки при низкоэнергетическом ионном азотировании
Loading...
Date
ORCID
DOI
item.page.thesis.degree.name
item.page.thesis.degree.level
item.page.thesis.degree.discipline
item.page.thesis.degree.department
item.page.thesis.degree.grantor
item.page.thesis.degree.advisor
item.page.thesis.degree.committeeMember
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
НТУ "ХПИ"
Abstract
Сформулирована математическая модель изменения толщины оксидного слоя при ионном азотировании металлов и сплавов в остаточной атмосфере вакуумной камеры. Получены расчеты характерных времен стравливания оксидных пленок при ионном азотировании.
A mathematical model of thickness variation of the oxide layer during ion nitriding of metals and alloys in the vacuum chamber’s residual atmosphere was formulated. Estimates of characteristic times of oxide films dissipation during ion nitriding were obtained.
A mathematical model of thickness variation of the oxide layer during ion nitriding of metals and alloys in the vacuum chamber’s residual atmosphere was formulated. Estimates of characteristic times of oxide films dissipation during ion nitriding were obtained.
Description
Citation
Куценко А. С. Математическое моделирование изменения толщины оксидного пленки при низкоэнергетическом ионном азотировании / А. С. Куценко, И. И. Марченко // Вестник Нац. техн. ун-та "ХПИ" : сб. науч. тр. Темат. вып. : Системный анализ, управление и информационные технологии. – Харьков : НТУ "ХПИ". – 2012. – № 30. – С. 7-10.
