Дослідження впливу геометрії контактної металізації на процеси швидкого перемикання у структурах з базовим шаром телуриду кадмію
Вантажиться...
Дата
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник/консультант
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Харківський національний університет імені В. Н. Каразіна
Анотація
Забезпечення електромагнітної стійкості сучасного радіоелектронного обладнання тобто здатності підтримувати робочі параметри під час і після дії імпульсного електромагнітного випромінювання різного походження є важливим питанням електронної техніки та фізики. Причиною нестабільної роботи електроніки під впливом ЕМ-імпульсів є те, що у ланцюгах виникають імпульси перенапруги, що призводять до руйнування електронних приладів на основі напівпровідникових матеріалів зазвичай внаслідок теплового пробою p-n переходу, або перегріву базових шарів напівпровідникових матеріалів. В наш час відомими є ефекти резистивного перемикання які активно використовуються в сучасній електроніці, та можуть бути використані для створення елементів захисту електронної техніки від електромагнітних імпульсів із швидким наростанням фронту. Ефект резистивного перемикання у телуриді кадмію був знайдений як у товстих (понад 100 мкм) монокристалічних шарах, так і спостерігається в тонких полікристалічних плівках. Дана робота спрямована на вивчення залежностей процесів перемикання між станами з низькою і високою провідністю в плівках CdTe залежать від різних факторів, таких як товщина плівки, її початкова структура, потужність імпульсу перемикання, властивості контактної металізації. Було виготовлено вакуумними методами серію тонкоплівкових структур на основі CdTe які відрізнялись геометричними параметрами молібденової контактної металізації. Для дослідження можливого впливу геометрії контактної металізації на процеси швидкого перемикання в структурах Mo - телурид кадмію – Mo було застосовано метод вимірювання та подальшої аналітичної обробки їх амплітудно-часових характеристик із використанням спеціально розробленого генератору на основі зарядової лінії, здатного генерувати електромагнітні імпульси наносекундної тривалості із тривалістю фронту наростання не більше 2 нс. Встановлено, що для експериментальних зразків які мали діаметр металізації 0,5 мм і 6 мм, спостерігались подібні параметри - час перемикання на рівні 1-2 нс, ідентичні значення напруги відсікання та характер його залежності від амплітуди імпульсу. Визначено, що геометрія контактної металізації не впливає на параметри перемикання в структурах Mo - телурид кадмію – Mo, а значить в ході розробки елементів захисту від електромагнітних імпульсів на їх основі можна використовувати існуючу промислову технологію формування металевих шарів.
Ensuring the electromagnetic stability of modern electronic equipment, ie the ability to maintain operating parameters during and after the action of pulsed electromagnetic radiation of various origins is an important issue of electronic engineering and physics. The reason for the unstable operation of electronics under the influence of EM pulses is that overvoltage pulses occur in the circuits, which lead to the destruction of electronic devices based on semiconductor materials usually due to thermal breakdown of the p-n junction or overheating of base layers of semiconductor materials. Nowadays, the effects of resistive switching are known, which are actively used in modern electronics, and can be used to create elements to protect electronic equipment from electromagnetic pulses with a rapid increase in the front. The effect of resistive switching in cadmium telluride was found both in thick (over 100 μm) monocrystalline layers and observed in thin polycrystalline films. This work is aimed at studying the dependences of switching processes between states with low and high conductivity in CdTe films depend on various factors, such as film thickness, its initial structure, switching pulse power, contact metallization properties. A series of CdTe-based thin-film structures that differed in the geometric parameters of molybdenum contact metallization were fabricated by vacuum methods. To study the possible influence of contact metallization geometry on the processes of rapid switching in the structures Mo - cadmium telluride - Mo, the method of measuring and further analytical processing of their amplitude-time characteristics was used using a specially developed generator based on a charge line capable of generating three growth front not more than 2 ns. It was found that for experimental samples with a metallization diameter of 0.5 mm and 6 mm, similar parameters were observed - switching time at the level of 1-2 ns, identical values of the cut-off voltage and the nature of its dependence on the pulse amplitude. It is determined that the geometry of contact metallization does not affect the switching parameters in the structures Mo - cadmium telluride - Mo, so in the development of protection elements against electromagnetic pulses based on them can use existing industrial technology for forming metal layers.
Ensuring the electromagnetic stability of modern electronic equipment, ie the ability to maintain operating parameters during and after the action of pulsed electromagnetic radiation of various origins is an important issue of electronic engineering and physics. The reason for the unstable operation of electronics under the influence of EM pulses is that overvoltage pulses occur in the circuits, which lead to the destruction of electronic devices based on semiconductor materials usually due to thermal breakdown of the p-n junction or overheating of base layers of semiconductor materials. Nowadays, the effects of resistive switching are known, which are actively used in modern electronics, and can be used to create elements to protect electronic equipment from electromagnetic pulses with a rapid increase in the front. The effect of resistive switching in cadmium telluride was found both in thick (over 100 μm) monocrystalline layers and observed in thin polycrystalline films. This work is aimed at studying the dependences of switching processes between states with low and high conductivity in CdTe films depend on various factors, such as film thickness, its initial structure, switching pulse power, contact metallization properties. A series of CdTe-based thin-film structures that differed in the geometric parameters of molybdenum contact metallization were fabricated by vacuum methods. To study the possible influence of contact metallization geometry on the processes of rapid switching in the structures Mo - cadmium telluride - Mo, the method of measuring and further analytical processing of their amplitude-time characteristics was used using a specially developed generator based on a charge line capable of generating three growth front not more than 2 ns. It was found that for experimental samples with a metallization diameter of 0.5 mm and 6 mm, similar parameters were observed - switching time at the level of 1-2 ns, identical values of the cut-off voltage and the nature of its dependence on the pulse amplitude. It is determined that the geometry of contact metallization does not affect the switching parameters in the structures Mo - cadmium telluride - Mo, so in the development of protection elements against electromagnetic pulses based on them can use existing industrial technology for forming metal layers.
Опис
Ключові слова
імпульс, контактна металізація, телурид кадмію, pulse, contact metallization, cadmium telluride
Бібліографічний опис
Дослідження впливу геометрії контактної металізації на процеси швидкого перемикання у структурах з базовим шаром телуриду кадмію / Кіріченко М. В., Дроздов А. М., Зайцев Р. В., Нікітін В. О., Хрипунов Г. С., Мінакова К. О., Шкода Д. С. // Вісник ХНУ імені В. Н. Каразіна. Серія: Фізика. – 2022. – Вип. 36. – С. 7-13.
