Исследование параметров плазменного потока установки для ионно-плазменной модификации стекла

dc.contributor.authorШрам, Александр Анатольевичru
dc.date.accessioned2015-05-12T11:40:53Z
dc.date.available2015-05-12T11:40:53Z
dc.date.issued2014
dc.description.abstractВ статье на основании зондовой методики исследовано изменение потенциала плазменного потока и оценена концентрация положительных ионов материала внедрения при ионно-плазменной модификации поверхности стекла при атмосферном давлении.ru
dc.description.abstractChange of the glass's surface properties using plasma treatment is a progressive technological method that allows achieves the surface layer with desired physical properties. To choose technological parameters ion-plasma treatment of the surface of the glass at atmospheric pressure, is necessary to examine potential variation of the plasma flow rate and the concentration of positive ions of the implementation. Electrical probe method is one of the most widely used and informative methods of plasma diagnostics which allows to establish its local characteristics. To investigate the potential distribution, temperature and concentration of positive particles in the section of the plasma flow used single electrical probe, which is a tungsten wire with a diameter of 0.3 mm and a length of 2 mm, placed in an alundum insulators. As a result of probing the plasma flow were obtained dependences of the ionization degree and the positive ions concentration of the material implantation from the temperature. Found that by using the developed plasmatrons for the process of ion-plasma treatment of the glass surface greatly increases the positive ions concentration of the material implantation and the degree of ionization the plasma flow.en
dc.identifier.citationШрам А. А. Исследование параметров плазменного потока установки для ионно-плазменной модификации стекла / А. А. Шрам // Энергосбережение. Энергетика. Энергоаудит = Energy saving. Power engineering. Energy audit. – 2014. – № 11. – С. 52-57.ru
dc.identifier.urihttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/14603en
dc.language.isoru
dc.publisherНТУ "ХПИ"ru
dc.subjectионru
dc.subjectнизкотемпературная плазмаru
dc.subjectэлектрический зондru
dc.subjectвольт-амперная характеристикаru
dc.subjectтемператураru
dc.subjectалундовые изоляторыru
dc.subjectionen
dc.subjectlow-temperature plasmaen
dc.subjectelectric probeen
dc.subjectcurrent-voltage characteristicen
dc.subjectglassen
dc.titleИсследование параметров плазменного потока установки для ионно-плазменной модификации стеклаru
dc.title.alternativeТhe study of plasma flow' parameters of the electrotechnical complex for ion-plasma surface modification of glassen
dc.typeArticleen

Файли

Контейнер файлів

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз
Назва:
EEE_2014_11_Shram_Doslidzhennia.pdf
Розмір:
654.29 KB
Формат:
Adobe Portable Document Format

Ліцензійна угода

Зараз показуємо 1 - 1 з 1
Ескіз недоступний
Назва:
license.txt
Розмір:
11.23 KB
Формат:
Item-specific license agreed upon to submission
Опис: