Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4703

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fmp

Від 2002 року кафедра має назву "Фізика металів і напівпровідників", попередня назва – кафедра металофізики.

Кафедра металофізики організована в 1930 році у складі фізико-механічного факультету ХММІ. Деканом факультету був у ті роки видатний вчений-фізик, академік Іван Васильович Обреїмов.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За час існування кафедрою підготовлено близько 3000 інженерів, у тому числі і для зарубіжних країн.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора та 2 кандидата фізико-математичних наук; 3 співробітника мають звання професора.

Переглянути

Фільтри

2007 - 200912010 - 20122

Налаштування

Автор: search.filters.author.Bugayev, Ye. A.Містить файли: Так

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 3 з 3
  • Ескіз
    Документ
    Nanoscale Co/C multilayer for "carbon window" Schwarzschild objective
    (STC "Institute for Single Crystals", 2007) Bugayev, Ye. A.; Devizenko, O. Y.; Zubarev, Evgeniy N.; Kondratenko, V. V.
  • Ескіз
    Документ
    Structural transformation in C/Si multilayer after annealing
    (Научный центр физических технологий МОН Украины; НАН Украины, 2012) Zhuravel, I. O.; Bugayev, Ye. A.; Konotopsky, L. E.; Zubarev, E. M.; Sevryukova, V. A.; Kondratenko, V. V.
    Amorphous C/Si multilayers were prepared by DC magnetron sputtering technique and investigated by transmission electron microscopy and low-angle x-ray diffraction methods after annealing at 650 and 950 °C. The amorphous interlayers of 0.5 − 0.6 nm thick were found at C/Si and Si/C interfaces being of different density and composition. Amorphous structure of the multilayer is stable up to 950 °C when crystallization of α-SiC occurs and voids form in α-Si layer.
  • Ескіз
    Документ
    Soft X-ray imaging of thick carbon-based materials using the normal incidence multilayer optics
    (Elsevier Ltd, 2010) Artyukov, I. A.; Feschenko, R. M.; Vinogradov, A. V.; Bugayev, Ye. A.; Devizenko, O. Y.; Kondratenko, V. V.; Kasyanov, Yu. S.; Hatano, T.; Yamamoto, M.; Saveliev, S. V.
    The high transparency of carbon-containing materials in the spectral region of “carbon window” (∼4.5–5 nm) introduces new opportunities for various soft X-ray microscopy applications. The development of efficient multilayer coated X-ray optics operating at the wavelengths of about 4.5nm has stimulated a series of our imaging experiments to study thick biological and synthetic objects. Our experimental set-up consisted of a laser plasma X-ray source generated with the 2nd harmonics of Nd–glass laser, scandium-based thin-film filters, Co/C multilayer mirror and X-ray film UF-4. All soft X-ray images were produced with a single nanosecond exposure and demonstrated appropriate absorption contrast and detector-limited spatial resolution. A special attention was paid to the 3D imaging of thick low-density foam materials to be used in design of laser fusion targets