Кафедра "Фізика металів і напівпровідників"

Постійне посилання колекціїhttps://repository.kpi.kharkov.ua/handle/KhPI-Press/4703

Офіційний сайт кафедри http://web.kpi.kharkov.ua/fmp

Від 2002 року кафедра має назву "Фізика металів і напівпровідників", попередня назва – кафедра металофізики.

Кафедра металофізики організована в 1930 році у складі фізико-механічного факультету ХММІ. Деканом факультету був у ті роки видатний вчений-фізик, академік Іван Васильович Обреїмов.

Кафедра входить до складу Навчально-наукового інституту комп'ютерного моделювання, прикладної фізики та математики Національного технічного університету "Харківський політехнічний інститут". За час існування кафедрою підготовлено близько 3000 інженерів, у тому числі і для зарубіжних країн.

У складі науково-педагогічного колективу кафедри працюють: 3 доктора та 2 кандидата фізико-математичних наук; 3 співробітника мають звання професора.

Переглянути

Фільтри

2019 - 20202

Налаштування

Автор: search.filters.author.Mikhailov, I. F.Ключові слова: search.filters.subject.X-ray diffraction

Результати пошуку

Зараз показуємо 1 - 2 з 2
  • Ескіз
    Документ
    Kinetics of phase transitions in highly oriented graphite intercalated with potassium
    (STC "Institute for Single Crystals", 2020) Mikhailov, I. F.; Zubarev, Evgeniy N.; Mikhailov, A. I.; Mamon, V. V.; Borisova, S. S.; Surovitskiy, S. V.
  • Ескіз
    Документ
    Structure and phase formation features of Ti-Zr-Ni quasicrystalline films under heating
    (Sumy State University, 2019) Malykhin, S. V.; Kondratenko, V. V.; Kopylets, I. A. ; Surovitskiy, S. V.; Baturin, A. A.; Mikhailov, I. F.; Reshetnyak, M. V.; Borisova, S. S.; Bogdanov, Yu. S.
    The paper describes the growth features of thin Ti-Zr-Ni films prepared by the method of magnetron sputtering of the targets with compositions Ti₅₃Zr₃₀Ni₁₈ and Ti₄₁Zr₃₈.₃Ni₂₀.₇ on the substrates at 300 K with subsequent annealing in vacuum. The formation peculiarities of phase composition, structure and thermal stability of quasicrystalline thin films were studied. It was established that in initial state the films were X-ray-amorphous or nanocrystalline with coherence lengths (according to Scherrer) near 1.6-1.8 nm independently on the element composition of the sputtered target. This structure is relatively stable up to the temperature 673 K when the formation of the quasi-crystalline phase begins. In the films with composition of Ti₅₃Zr₃₀Ni₁₈. It is added with an admixture of the 1/1 W-crystal approximant phase. In the films with Ti₄₁Zr₃₈.₃Ni₂₀.₇ composition, an optimal annealing temperature is between 823 K and 873 K. Additionally, for the first time, the data on the formation of 2/1 approximant crystal as an admixture phase in this system were obtained. Under annealing at the temperatures higher than 873 K, the decomposition of the quasi-crystalline and approximant phases into crystalline phases stable at higher temperatures according to the equilibrium phase diagram was established.