Error sources in a pyrometric system for controlling the parameters of A3B5 heterostructures during epitaxial growth
Вантажиться...
Дата
Автори
ORCID
DOI
Науковий ступінь
Рівень дисертації
Шифр та назва спеціальності
Рада захисту
Установа захисту
Науковий керівник/консультант
Члени комітету
Назва журналу
Номер ISSN
Назва тому
Видавець
Національний технічний університет "Харківський політехнічний інститут"
Анотація
Опис
Ключові слова
pyrometric systems, compound semiconductors, epitaxial growth, heterostructures, metalorganic chemical vapour deposition, temperature repeatability, temperature control system, measure of thermal radiation, pyrometry method, ambient temperature, spectral sensitivity of the photodiode, temperature dependence of the spectral sensitivity, thin-film structures, пірометричні системи, складні напівпровідники, епітаксіальний ріст, гетероструктури, металоорганічне хімічне осадження з парової фази, температурна повторюваність, система контролю температури, вимірювання теплового випромінювання, метод пірометрії, температура навколишнього середовища, спектральна чутливість фотодіода, температурна залежність спектральної чутливості, тонкоплівкові структури
Бібліографічний опис
Voronko A. O. Error sources in a pyrometric system for controlling the parameters of A3B5 heterostructures during epitaxial growth / A. O. Voronko, D. O. Novikov // Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров'я = Information technologies: science, engineering, technology, education, health : тези доп. 31-ї Міжнар. наук.-практ. конф. MicroCAD-2023, 17-20 травня 2023 р. / ред. Є. І. Сокол ; уклад. Г. В. Лісачук. – Харків : НТУ "ХПІ", 2023. – С. 445.